专用于光电子能谱和 X 射线吸收光谱（总电子产率和总荧光产率技术）的实验站。
规格：
- 该系统由分析室、制备室、装载锁、储存室和径向分配室组成。
- 由 mu-metal 制成的分析室配备基于硅光电二极管的全荧光检测器、5 轴低温机械手、两阳极 X 射线源、带单色器的紫外线源、电子泛光源和气体加药系统。分析室中的基础压力≤ 1*10 -10 mbar。
- 带有 LHe 冷却（开放式循环）的 5 轴分析机械手，用于旗帜式样品架，
- 用于样品应用和表征的制备室，配备 LEED 光谱仪和用于 PTS 支架的4 轴 LN 2操纵器、电子束蒸发器 EBV 40A1、Efusion Cell EF 40C1 和离子源 IS 40E1。
- 带有用于 PTS 样品架的4 轴 LN 2操纵器的附加制备室，准备用于处理气体。
- 带分离加载锁定室的样品加载系统
- 用于 6 个 PTS 样品架的储存室。
- 带设备的切割室
