针对XPS和高压XPS实验优化的高强度双阳极Al/Mg源。阳极、灯丝和源外壳的设计保证了最大的X射线强度和阳极面之间非常低的串扰。特殊配置的鼻锥允许最大限度地接触样品。标准源中使用的双阳极允许分离发射两种不同特征的X射线辐射发射线：Mg（1253 eV）和Al（1487 eV）——根据要求提供其他涂层材料。
特性
高强度双阳极铝/镁
特殊配置的鼻锥
串扰非常低
低磁场
密封外壳
非常有效地水冷内壳，以减少操作过程中对样品的热损伤
内置双高压保护和密封外壳
能够在毫巴范围内进行高压实验（可选）
能够在有限的水流下完全控制工作。
选配
HP版本，最高20毫巴
线性偏移，倾斜50-100mm（适用于配备额外泵浦端口的HP X射线源）
冷却器
技术参数
| Mounting flange | DN 40CF (non-rotatable) |
| Anode | Al/Mg (other materials on request) |
| Power | Al 600 W / Mg 400 W |
| Energy range | 7 – 15 keV |
| Cathode current (Icath) | up to 2.5 A |
| Emission current range (Ie) | 0 – 50 mA |
| Cross talk | < 0.35 % |
| Magnetic field at sample | below 0.5 μT |
| Increased sample temperature | < 5 °C |
| Cathode type | thoriated tungsten |
| Water cooling | required, pressure 3.5 – 5 bar (max. 6 bar), flow ≥ 2.5 l/min., Tmax = 30 °C |
| Insertion length | 285 mm; OD: 35 mm |
| FWHM | dependent on working distance (e.g. 30 mm for distance 15 mm) |
| Typical working distance | 5 – 30 mm (optimum 15 mm) |
| Bakeout temperature | up to 250 °C |
| Working pressure | < 5 x 10-6 mbar |
