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沉积仪器
波兰PREVAC,科学产品,沉积仪器,光束通量监测器
波兰PREVAC,科学产品,沉积仪器,石英天平 QO 40A1
波兰PREVAC,科学产品,沉积仪器,磁控管源 |3 英寸靶材
波兰PREVAC,科学产品,沉积仪器,磁控管源 |2 英寸靶材
波兰PREVAC,科学产品,沉积仪器,电子束蒸发器 EBV 40A1
波兰PREVAC,科学产品,沉积仪器, EF 40C1 渗出池
波兰PREVAC,科学产品,沉积仪器, 双丝渗出池 EF 40C1DF
波兰PREVAC,科学产品,沉积仪器, 低温渗出池 EF 40LT1
离子束刻蚀系统 透射电子显微镜样品制备 支持无栅/有栅、射频（RF）/直流（DC）离子源
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旋涂机（Spin Coaters）旋转涂布机 高精度薄膜制备 光刻胶涂覆 纳米技术
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波兰PREVAC UV source UVS 40A2紫外光源
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波兰 PREVAC, 沉积系统, 磁控溅射系统, 标准 MS 系统
波兰 PREVAC, 沉积系统, 磁控溅射系统 032 PRIMS ,basic MS 系统
波兰 PREVAC,电子, 用于沉积的电子元件,磁控管电源 M600DC-PS,驱动多达 3 个磁控管源
波兰 PREVAC,电子, 用于沉积的电子元件,沉积过程控制器 DPC10
波兰 PREVAC,电子 控制和测量,厚度监测控制器 TMC13,沉积电子
波兰 PREVAC,电子 控制和测量,沉积过程控制器 DPC10,用于沉积过程控制的新型电子单元
PREVAC 沉积系统 旋涂机 金属薄膜、聚合物涂层、有机薄膜 真空覆膜
PREVAC 脉冲激光沉积系统 PLD系统 沉积系统 表面科学和材料研究 ARPES、IBS、磁控溅射和 MBE 纳米结构层
PREVAC MBE系统 沉积系统 分子束外延 离子源 单晶的薄膜沉积 原子层沉积 真空镀膜
PREVAC 磁控溅射系统 沉积系统 PRIMS 真空镀膜 电子束蒸发 反应溅射
低温积液池 EF 40LT1 低温渗液池 低温沉积池
双丝积液池 EF 40C1DF 双丝沉积池 适用于任何 MBE 系统 无钼结构
积液池 EF 40C1 渗液池 克努森池 无钼结构 用于 MBE 系统
电子束蒸发器 EBV 40A1 超纯亚单层和多层 MBE 薄膜生长
用于2 英寸目标的磁控管源 63CF 溅射工艺 M600DC-PS 电源
用于3英寸目标的磁控管源 160 ISO-K 溅射工艺 磁控溅射源
石英天平 QO 40A1 测量涂层厚度 蒸发膜和溅射镀膜
光束通量监测器 MBE 应用 光束等效压力 BEP
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石英天平 QO 40A1 测量涂层厚度 蒸发膜和溅射镀膜
用于3英寸目标的磁控管源 160 ISO-K 溅射工艺 磁控溅射源
用于2 英寸目标的磁控管源 63CF 溅射工艺 M600DC-PS 电源
电子束蒸发器 EBV 40A1 超纯亚单层和多层 MBE 薄膜生长
积液池 EF 40C1 渗液池 克努森池 无钼结构 用于 MBE 系统
双丝积液池 EF 40C1DF 双丝沉积池 适用于任何 MBE 系统 无钼结构
低温积液池 EF 40LT1 低温渗液池 低温沉积池
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