TES 是一系列离子源、电子源、等离子体源和原子源，基于获得专利的单腔电子回旋共振（ECR）技术。从相同的核心元件出发，可以构建各种各样的源，从用于离子铣削和离子束修形的聚焦束源，到用于注入聚焦离子束（FIB）聚焦柱和表面分析系统的高亮度离子源，到与超高真空兼容的原子氧源，再到用于表面清洁和 / 或离子束溅射沉积的简单等离子体源或溅射源。
如需更多信息，请联系我们。这些源中的每一个都可以安装刚性或柔性法兰接头，以便在真空环境下移动源。
无栅极超高真空兼容溅射源
适用于样品清洁，也能够实现更高的电流密度以进行溅射沉积。
离子铣
考虑到离子束修形和离子铣削应用，该离子源配备了一个聚焦模块。
沉积辅助离子源
通过在沉积过程中进行高通量低能量离子轰击来提高薄膜质量。
高亮度离子源
主要用于聚焦离子束柱和表面分析设备。通过简单的极性切换即可产生正离子和负离子。设计可产生高达 ±30 千伏的离子束。
等离子体源
利用电子回旋共振（ECR）等离子体本身，该源专为下游等离子体清洗 / 远程源等离子体清洗而设计。
原子源
一种适用于表面处理的源类型，如碳清洁、氧化和氮化形成，损伤极小。原子束是通过从等离子体中过滤带电粒子产生的。
电子源 / 中和器
基于长寿命电子回旋共振（ECR）的中和器或电子注枪，用于束流 / 表面中和，同时也作为更高束流能量的电子源。
源与法兰的连接方式：
刚性连接或柔性连接。TES 系列的源既可以通过刚性连接直接安装在法兰上，也可以仅通过柔性连接器与法兰连接，这样您就可以在系统内随意放置源的位置。
软件
该软件的源代码配备了一个用户友好的控制与监测界面，使您能够控制光束、记录数据以及运行存储的配方。图形用户界面（GUI）可用于将我们的软件与其他系统集成。
应用
由于存在不同的可能提取系统以及可定制的束流光学系统，TES 确实是一个多用途的源概念。它可以针对不同应用进行配置，这些应用包括离子束修形、离子铣削、溅射清洗、表面改性、中和、薄膜沉积辅助以及离子束溅射沉积。
