束流操作
这些束流由获得专利的微型电子回旋共振（ECR）源（COMIC）产生，并通过双间隙系统引出，该系统可让您调整束流形状（会聚、平行或发散）。您可以在此处找到更多关于该技术的信息。引出的电流可通过三个参数进行调节：超高频（UHF）功率、源气体压力以及 ECR 腔出口处的电场强度（由相对于束流电压的聚焦电压决定）。
软件
该软件的源程序配有一个用户友好的控制与监测界面，可让您对光束进行调校、记录数据并运行存储的方案。此外，还提供 Labview 驱动程序，以便将我们的软件与其他系统集成。
高压平台兼容选项
如果您已经配备了高压平台，我们的高压平台兼容版本可能更为合适。在此适配方案中，源端与安装法兰不再进行电气隔离。因此，源端与法兰之间的距离可以缩短。
构建你自己的多源系统
组装一套属于你自己的用于制备多组分薄膜的定制离子束沉积系统。通过在共焦几何结构中使用多个离子源，可以获得均匀的薄膜。每个离子源溅射各自的靶材。靶材可以是从手工切割的金属箔片到烧结颗粒等任何材料。
IE 枪在实际应用中的案例（用户应用）：
・离子束溅射沉积非晶硅和氧化物薄膜，旨在获得具有低光吸收和低机械损耗的涂层，以用于性能更优的引力波探测器。薄膜的良好特性归因于我们离子源的沉积特性和洁净度。您可以在此处了解更多相关信息。
・IE 枪作为静电加速器的电离源和注入器，用于研究多环芳烃分子（PAHs）的冷却动力学。多环芳烃被认为是星际介质中特征红外发射带的可能载体。对于此应用，我们离子源能够在不使气体分子裂解的情况下使其电离（“软电离”），这一能力激发了用户对该离子源的兴趣。
技术数据
源模块配备 19 英寸电源机架、SMA 和高压电缆、电源线以及 USB 软件。不包括源气体、源冷却系统（世伟洛克 6 毫米管件）和个人电脑。离子注入枪可根据您的特定需求定制。如需了解相关可能性，请联系我们，或查看我们关于定制束流解决方案的页面。30kV 及以下型号的规格：
