Polygon Physics 应用 Ion implantation 离子注入
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成分与结构变化
离子注入的目的是将离子添加到衬底内部，以改变其材料特性。入射离子会改变元素组成，但它们也会引发结构变化，因为它们将能量和动量传递给了衬底。离子的穿透深度可以通过离子能量进行调节，并且取决于离子的电荷、类型以及衬底的性质。我们的离子源通常提供单电荷离子。
在固体材料内部会发生什么呢？
当注入的离子穿过固体基体时，它们会逐渐失去能量，直至停止。在高能状态下，它们主要通过与基体中束缚电子的非弹性碰撞而减速。在低能状态下，与基体原子的原子核的碰撞占主导地位（即所谓的碰撞级联）。当固体中的原子获得的能量超过其阈值位移能量（通常为几十电子伏特）时，它们将永久地从晶格位置上位移。如果获得的能量更多，这些被位移的原子自身也会产生碰撞级联。
离子注入的应用
例如，离子注入可用于工具钢的强化、医疗植入物以及半导体器件制造。一些可以改变的表面特性如下：
・硬度・疲劳・韧性・附着力・磨损・摩擦・腐蚀氧化・介电性能・磁性能・超导性・亲水性・电阻率
我们团队拥有构建定制离子注入系统的经验，该系统可处理宽度达半米（500 毫米）的表面，束流能量高达 70 千伏。我们期待有机会进一步开发我们的可扩展技术，如果您对此感兴趣，请与我们联系。
