Polygon physics等离子刻蚀系统、HEXAR宽束离子源

Polygon Physics公司HEXAR是一款专为真空表面处理设计的宽束离子源。该模块化设计理念使其能适配不同尺寸的表面处理需求，典型应用包括：
• 离子束刻蚀
• 表面清洁
• 离子辅助沉积
• 离子束溅射沉积

工作原理
HEXAR采用六边形阵列微型微波腔体结构，每个腔体仅需数瓦级超低射频功率（2.45GHz）即可维持ECR放电。其技术优势在于：
✓ ECR等离子体卓越的稳定性与可靠性
✓ 零耗材设计
✓ 通过气体流量、电极电压和射频功率的协同调控，实现传统宽束源无法企及的束流密度分布可编程控制

模块化扩展技术
处理面积随腔体数量线性扩展。如需处理更大尺寸基板，欢迎联系我们，或访问定制束流解决方案页面了解多腔体架构的更多可能性。

中和器选项
针对非导电基板的离子处理，可配备ECR电子中和器以消除表面电荷积累。该中和器：
• 采用与HEXAR同源的紧凑型ECR技术
• 单微波腔体即可完全中和正离子电流
• 无灯丝等易损件设计

应用场景
通过调整光学系统、单腔射频功率及腔体数量，HEXAR可满足不同应用需求：
→ 刻蚀加工
→ 表面清洁
→ 表面改性
→ 离子辅助沉积
→ 离子束溅射沉积
更多应用案例请参见专题页面

技术参数
标准配置包含：
• 19英寸机架式控制系统
• SMA接口高压电缆
• 电源线及控制软件
需另行配置气源、6mmSwagelok接口冷却系统及控制电脑