TES单腔式ECR等离子体源
Polygon Physics公司的TES是紧凑型ECR离子源系列，专为超高真空（UHV）或高真空（HV）环境下的表面科学与处理设计，可产生离子、等离子体、电子或原子束流。凭借可选的多种引出系统及可定制化束流光学配置，TES是真正的多功能离子源解决方案。
应用
蚀刻
溅射
修形
表面改性与活化
电子化学
中和
束线
优势
真空环境移动
长期稳定性
紧凑设计
维护简化，无灯丝，无需冷却
即插即用
独立电子机架，可定制
| TES-GO | ions-high brightness | ions-broad beam | electrons-neutralizer |
|---|---|---|---|
| Applications | Etching, figuring, sputtering, surface activation, beam line | Etching, sputtering, surface activation | Electron chemistry, neutralization, surface modification |
| Energy range | 0.5 – 5 kV | 0.1 – 5 kV | 0.1 – 5 kV |
| Current | 10 to 500 µA | 0.3 to 3 mA | 0.1 to 50 mA |
| Beam size (typ. @ 4 cm) | 0.3 to 15mm | Energy dependent | 3-30 mm |
| Source length (exc. connectors) | 192 mm with Einzel | 150 mm | 150 mm / 192 mm with Einzel |
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