TES单腔式ECR等离子体源
Polygon Physics公司的TES是紧凑型ECR离子源系列，专为超高真空（UHV）或高真空（HV）环境下的表面科学与处理设计，可产生离子、等离子体、电子或原子束流。凭借可选的多种引出系统及可定制化束流光学配置，TES是真正的多功能离子源解决方案。
应用：
蚀刻
溅射
成形加工
表面改性与活化
电子化学
中和处理
优势
随时间稳定性
紧凑性
维护简化，无灯丝设计，无需冷却
即插即用
独立电子机架，可定制化
| TES-40 | electrons-neutralizer | ions-broad beam | ions-high brightness |
|---|---|---|---|
| Applications | Electron chemistry, neutralization | Etching, sputtering, surface activation | Etching, figuring, sputtering, surface activation |
| Energy range | 0.1 – 5 kV | 0.1 – 5 kV | 0.5 – 5 kV |
| Current | 0.1 to 50 mA | 0.3 to 3 mA | 10 to 500 µA |
| Beam size (typ. @ 4 cm) | 3-30 mm | Energy dependent | 0.3 to 15mm |
| Insertion depth | 137 mm / 190 mm with Einzel | 137 mm | 190 mm with Einzel |
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