Polygon physics多功能表面处理系统
“一源多用”的表面处理解决方案。Polygon Physics为科研领域提供集成化系统：单台设备即可在不破坏真空的条件下，对同一样品进行多道表面处理工序。
紧凑型科研系统实现多步骤表面处理
图示：配备离子源与200mm交叉腔体的多功能表面处理系统
▌离子束溅射沉积
支持多层膜沉积（配置两种不同溅射靶材）
▌溅射清洗
增强薄膜附着力
▌纳米结构加工
改变表面特性（如吸光性、装饰性、粘附性）
▌低能离子注入
最高30kV能量
在薄膜沉积前清洁样品，或在保护涂层制备前进行表面纳米结构化处理，亦可沉积两种不同材料的薄膜——我们的多功能系统让这些复杂流程一气呵成。
系统具备卓越的工艺参数灵活性：
• 离子源拥有宽广的束流能量、离子电流及束形调节范围
• 溅射靶材与膜厚监控仪安装于可旋转伸缩轴上
• 样品台配备长度可调的旋转伸缩臂，适配不同工艺模式
图示：系统内部工作状态，展示发散氩离子束在Ø30mm范围内进行纳米结构加工
单系统多工作模式
样品清洗与纳米加工模式
样品旋转至束流路径，溅射靶材与膜厚仪处于收回状态
束流校准模式
样品移出束流路径，靶材与膜厚仪收回，离子束直接进入法拉第杯测量束流并计算样品区平均电流密度
薄膜沉积模式
靶材进入束流路径，样品处于沉积位，膜厚仪收回
沉积速率校准模式
靶材就位，样品旋转至沉积位，膜厚仪（FTM）置于样品与靶材之间
