美国 Novascan PSD Pro 系列 UV/臭氧清洗系统
Novascan 提供多款台式 UV 臭氧清洗机型号、系统尺寸及可选配置，以满足您的具体需求和预算要求。
独特样品台，可实现 360 度样品访问，适用于薄或高样品：
Novascan 系统配备原装可变高度样品台，可调节关键 UV 灯与样品的距离。可处理高度达 100 mm 的样品。Novascan 还提供新的经济型低样品固定高度系列，适用于高度小于 15 mm 的薄样品，同时保留原系统的所有优势功能。
高密度深紫外石英网格灯，功率强大：
Novascan 系统采用高质量深紫外石英灯，灯间距紧密，实现最大覆盖均匀性，并快速提升表面清洁性能，适用于常规及复杂材料。
高度可升级和可定制系统：
Novascan 提供丰富的 UV 系统选项，以满足当前及未来的应用需求。模块化 UV 系统设计支持升级，使系统能够随着项目发展而保持功能。可添加选项，例如增强清洁能力的热 UV、适用于大样品的大灯或臭氧抽排器，使系统可安全在台面使用，而无需通风柜。
多种尺寸系统以满足应用需求：
系统尺寸从 100×100 mm（4×4 英寸）到 500×500 mm（20×20 英寸）不等，可根据样品尺寸及一次处理样品数量选择。
固定或可变高度系统：
固定高度适用于晶圆、显微镜载玻片、盖玻片、AFM 探针等。可变高度样品台适用于高度可达 4 英寸的样品，UV 热系统最高可达 3.5 英寸。
可靠性：
高度可靠的系统，已通过 25 年以上应用验证。
应用领域
去除有机污染物：
快速去除各种表面和材料上的油性有机污染物，如硼硅玻璃、砷化镓、ITO、硅晶圆、玻璃、PDMS、AFM 探针、高分子材料等。
半导体晶圆清洗与表面清洁：
非破坏性清洁各种类型的半导体晶圆（硅晶圆、磷化铟 (InP) 晶圆、砷化镓 (GaAs) 晶圆、锗 (Ge) 晶圆、蓝宝石晶圆等），实现最佳清洁效果，无需昂贵的高真空系统、湿法工艺或有毒化学品。
扫描电子显微镜 (SEM)、透射电子显微镜 (TEM)、原子力显微镜 (AFM) 及石英晶体微天平 (QCM) 应用：
制备和清洁 SEM/TEM 样品，准备并重复使用 AFM 探针，清洁 QCM 传感器，用于高分辨率成像、力学测量、化学检测和分析。
玻璃表面清洁：
获得亲水、无菌、洁净的表面，用于细胞培养、显微镜观察、AFM、PDMS 微流控粘接及其他应用。
表面改性、表面活化与制备：
激活表面，增强粘附性和结合力，提高润湿性及其他表面特性。
微流控器件：
清洁和制备 PDMS 及玻璃组件，用于微流控器件的制造和粘接。
光刻胶去除：
采用 Novascan 的热 UV 处理工艺配合纯氧，有效且非破坏性地去除晶圆、硅、氮化硅、硼硅玻璃及半导体表面的光刻胶残留物。
PSD Pro 系列
PSD Pro 系列（PSDP-UV）仪器为科研级 UV/臭氧清洗系统，提供极高的灵活性，适用于分子有机物去除及多种其他应用。可在环境空气中操作，或通过两个标准气体接口之一通入氧气以增强臭氧生成。系统由可编程数字控制器控制，确保精准的处理时间和最佳清洗参数。
特点
- 提供经济型低样品台型号及原装可变高度样品台型号
- 可编程数字控制器，实现更高的操作控制
- 数字倒计时显示
- 可轻松升级为温控系统
- 支持“暂停”和“中断”功能
- 强大的系统，提供增强的工艺控制
- 内部存储以保存之前的设置
