美国Novascan紫外线臭氧清洁机PSD-UV数字控制4×4 英寸
PSD系列
PSD 系列仪器 （PSD-UV） 是数字控制的台式系统，尺寸范围为 4×4“ 至 20×20”。这些系统具有强大的紫外线网格系统，带有反射器和可调节的高度级，可实现最佳的样品定位和性能。进/出气口可用于 4x4 英寸和更大的系统。该系统由方便的预设控制器控制，使作变得轻而易举。
美国Novascan紫外线臭氧清洁机PSD-UV数字控制4×4 英寸特征
易于使用的预设数字控制器
方便的2键作，方便简单。
自动化的处理时间为 15、30、45、60、90、120 分钟
工艺周期可随时手动中断
系统可以通过热紫外温度级等选项进行升级，但不如 PSDP 型号那么简单或经济高效。
节省成本且功能性设计使该系统成为受欢迎的选择
非常简单的设置和使用
产品优势
Novascan PSD、PSDP 和 PSDP-Thermal 系列紫外线臭氧表面清洁和表面活化系统：
Novascan 提供多种台式紫外线臭氧净化器型号、系统尺寸和选项，以满足您的特定需求和预算要求。
独特的样品台，允许 360 度样品访问和薄或高样品：
Novascan 系统提供我们独创的可变高度载物台，用于将治疗关键紫外线灯设置为样品距离。高度达 100 毫米的样品可以在我们的可变载物台高度系统中进行处理。Novascan还提供了一个新的经济高效的低样品固定载物台系列，使您能够处理高度小于15mm的薄样品，同时仍然结合我们原始系统的所有强大功能和优势。
强大的高密度深紫外石英网格灯：
Novascan 系统使用具有最高质量深紫外石英的灯，这些灯间隔很近，可实现最大覆盖均匀性和快速增强的表面清洁性能，适用于常见和具有挑战性的材料。
高度可升级和可定制的系统：
Novascan现在提供大量UV系统选项来满足您的应用要求。以及未来。我们的模块化紫外线系统设计允许它们可升级，因此您的系统可以随着项目的发展和发展而保持功能。添加诸如用于增强清洁应用的热紫外线、用于更大样品的更大灯或臭氧真空器等选项，以便您可以在台式上而不是在通风橱中安全地使用您的系统。
多种尺寸的系统可满足您的应用要求：
尺寸范围从 100×100 毫米（4×4 英寸）到 500×500 毫米（20×20 英寸），以匹配您的样品大小和您一次要处理的样品数量。
固定或可变高度系统：
为晶圆、显微镜载玻片、盖玻片、AFM 探针等选择固定高度。可变高度样品台可用于高度达 4 英寸的较高样品，或高度达 3.5 英寸的紫外热系统。
可靠性：
经过超过 25 年验证的高可靠性系统。
应用
去除并去除有机污染物：
快速去除各种表面和材料（如硼硅酸盐、砷化镓、ITO、硅片、玻璃、PDMS、AFM 探针、聚合物等）上的油性有机污染物。
半导体晶圆清洗和表面清洗：
无损表面清洁所有类型的半导体晶圆（硅晶圆、磷化铟 （InP） 晶圆、砷化镓 （GaAs） 晶圆、锗 （Ge） 晶圆、蓝宝石晶圆等，无需昂贵的高真空系统或湿法工艺或有毒化学品即可获得最佳效果。
扫描电子显微镜、透射电子显微镜、原子力显微镜和石英晶体微量天平应用：
制备和清洁 SEM / TEM 样品，制备和重复使用 AFM 探针以及清洁 QCM 传感器，用于高分辨率成像、力测量、化学检测和分析。
玻璃表面清洁：
实现亲水、无菌、原始表面，适用于细胞培养、显微镜、AFM、PDMS 微流控键合和其他应用。
表面改性、表面活化和制备：
激活和增强附着力和粘合性、润湿性和其他表面特性。
微流控器件：
清洁和准备用于微流体制造和粘合的 PDMS 和玻璃组件。
光刻胶剥离：
使用 Novascan 的纯氧热紫外线处理工艺，有效无损剥离晶圆、硅、氮化硅、硼硅酸盐玻璃和半导体表面的光刻胶残留物。
