• 独特的样品台，支持 360 度样品操作及薄型 / 高型样品处理：Novascan 系统配备原创的 “可变高度样品台”，可调节紫外灯与样品间的关键处理距离。在 “低样品高度系统” 中，最高可处理 100mm 的样品。Novascan 还提供高性价比的 “可变样品高度台” 系列，可处理厚度小于 15mm 的薄型样品，同时保留原创系统的所有优质功能与优势。
• 强大的高密度深紫外石英栅格灯：Novascan 系统采用高品质深紫外石英灯，灯组间距紧密，可实现均匀覆盖最大化，同时针对常规及难处理材料，实现快速高效的表面清洁效果。
• 高度可升级、可定制的系统：Novascan 提供丰富的紫外系统选项，满足您当前及未来的应用需求。模块化的系统设计让设备可不断升级，确保系统能随项目发展持续适配。您可添加热紫外（用于强化清洁）、大型灯组（用于大型样品）或臭氧抽排装置（使系统可安全用于台面而非真空罩）等选项。
• 多尺寸系统，适配不同应用需求：尺寸范围从 100×100mm（4×4 英寸）到 500×500mm（20×20 英寸），可匹配您的样品尺寸及单次处理的样品数量。
• 固定 / 可变高度系统：固定高度适用于晶圆、显微镜载玻片、盖玻片、原子力显微镜探针等；可变高度样品台则支持最高 4 英寸的高型样品，或在紫外热系统中支持最高 3.5 英寸的样品。
• 可靠性：系统具备高可靠性，已历经 25 年以上的市场验证。

PSD 系列设备介绍

设备概述

核心特性

1. 提供两种机型选择：高性价比的低样品台机型、原创的可变高度样品台机型
2. 配备易用的预设数字控制器，仅需 2 个按键即可完成操作，便捷简单
3. 支持 15、30、45、60、90、120 分钟的自动化处理时长，也可随时手动中断处理流程
4. 可升级配置（如热紫外温度台），但升级灵活性与成本效益不及 PSDP 机型
5. 设计兼顾成本与功能，是兼具实用性的热门选择
6. 安装与使用流程极为简化

PSD Pro 系列设备介绍

设备概述

核心特性

1. 提供两种机型：高性价比的低样品台机型、原创的可变高度样品台机型
2. 配备可编程数字控制器，实现更灵活的操作控制
3. 具备数字倒计时显示功能
4. 可轻松升级为温度控制系统
5. 支持 “暂停” 与 “中断” 操作功能
6. 系统性能强大，可实现更精细的过程控制
7. 内置存储功能，可保存过往设置参数

PSD Pro 加热系列设备介绍

设备概述

核心特性

1. 提供两种机型：高性价比的低样品台机型、原创的可变高度样品台机型
2. 与 PSDP 系列基础配置一致，工厂预装了温控样品台
3. 具备极强的性能潜力与使用灵活性
4. 适用于多用户共享的使用环境

应用领域

1. 去除有机污染物快速清除多种表面与材料（如硼硅酸盐、砷化镓、ITO、硅晶圆、玻璃、PDMS、原子力显微镜探针、聚合物等）上的油性有机污染物。
2. 半导体晶圆清洁与表面处理对各类半导体晶圆（硅晶圆、磷化铟晶圆、砷化镓晶圆、锗晶圆、蓝宝石晶圆等）进行无损表面清洁，无需昂贵的高真空系统、湿法工艺或有毒化学品即可获得理想效果。
3. 电子显微与分析设备应用制备并清洁扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）样品，预处理并重复利用原子力显微镜（AFM）探针，清洁石英晶体微天平（QCM）传感器，以支持高分辨率成像、力测量、化学检测与分析。
4. 玻璃表面清洁使玻璃表面达到亲水、无菌、洁净的状态，适用于细胞培养、显微观察、原子力显微镜、PDMS 微流控键合等应用。
5. 表面改性、活化与预处理激活材料表面，提升其黏附键合性、润湿性及其他表面性能。
6. 微流控器件处理清洁并预处理 PDMS 与玻璃组件，以用于微流控器件的制备与键合。
7. 光刻胶去除采用 Novascan 的热紫外处理工艺（配合纯氧），可无损且高效地去除晶圆、硅、氮化硅、硼硅酸盐玻璃及半导体表面的光刻胶残留。