PSD Pro加热系列（PSDP-UVT）

描述

PSD Pro加热系列（PSDP-UVT）在Pro系列的基础上进一步提升了性能，它配备了温度控制装置，能够更有效地破坏有机分子结构。通过PID反馈回路控制的数字控制器，可确保温度始终稳定在200摄氏度左右。（也可选择将温度设定为300摄氏度。）

特点

• 提供经济型、低样品台型号，以及我们独有的可变样品台高度型号。

• 与PSDP相同，但出厂时已安装温度调节装置。

• 具备最大的潜力与灵活性

• 非常适合多用户环境使用

产品优势

Novascan PSD、PSDP及PSDP-Thermal系列紫外线臭氧表面清洗与表面活化系统：

Novascan提供多种台式紫外线臭氧清洁器型号，以及不同的系统规格和配置选项，以便满足您的特定需求与预算要求。

• 独特的样品台设计，可实现360度全方位操作样品，同时适用于较薄或较高的样品。

  Novascan系列产品配备了我们独有的可变高度支架，可用于调整紫外线灯与样品之间的距离。使用该支架，高度为100毫米以内的样品都可以被成功处理。此外，Novascan还推出了新型的、成本更低的全固定式支架系列，它能够用于处理高度低于15毫米的薄型样品，同时依然具备我们原有系统所具备的所有优点和功能。

• 强大的高密度深紫外石英栅极灯：

  Novascan系统采用品质极高的深紫外石英灯，这些灯之间间距很小，从而能够实现最佳的覆盖均匀性；同时，无论是对普通材料还是难以处理的材料，该系统都能快速提升表面清洁效果。

• 高度可升级与可定制的系统：

  Novascan提供了多种紫外线系统选项，能够满足您当前以及未来的各种应用需求。其模块化设计使得这些系统具备升级功能，因此随着项目的不断发展，您的系统依然能够保持良好的性能。您还可以选择添加诸如热能紫外线功能以提升清洁效果、更大功率的灯管以处理更大的样本，或是臭氧净化装置，这样您就可以在实验台面上安全地使用该系统，而无需将其置于通风橱中。

• 多种规格的系统，可满足您的应用需求：

  尺寸范围从100×100毫米（4×4英寸）到500×500毫米（20×20英寸），可根据样品的大小以及每次需要处理的样品数量来选择合适的尺寸。

• 固定高度或可变高度系统：

  可分别为晶圆、显微镜载玻片、盖玻片、AFM探针等选择固定高度。对于高度较高的样品，还有可调节高度的样品台可供使用：其最大承重高度为4英寸；而在UV热处理系统中，该数值则为3.5英寸。

• 可靠性：

  经过25年以上验证、极为可靠的系统。

应用

• 剥离并去除有机污染物：

  能够快速去除各种表面和材料上的油性有机污染物，这些材料包括硼硅玻璃、砷化镓、ITO、硅片、玻璃、PDMS、AFM探针以及各类聚合物等。

• 半导体晶圆清洗与表面清洗：

  无需使用昂贵的高真空系统、湿法工艺或有毒化学物质，即可对各类半导体晶圆（硅晶圆、磷化铟晶圆、砷化镓晶圆、锗晶圆、蓝宝石晶圆等）进行无损表面清洗，从而获得最佳效果。

• 扫描电子显微镜、透射电子显微镜、原子力显微镜以及石英晶体微天平——其应用领域：

  制备并清洗SEM/TEM样品，准备并重复使用AFM探针，同时清洁QCM传感器，以便实现高分辨率成像、力值测量以及化学物质的检测与分析。

• 玻璃表面清洁：

  为细胞培养、显微镜观察、AFM检测、PDMS微流控器件组装等应用，打造亲水、无菌且表面状态良好的表面。

• 表面改性、表面活化与制备：

  激活并提升附着力、粘接力、润湿性以及其他表面性能。

• 微流控器件：

  清洁并准备用于微流控器件制造与粘接的PDMS及玻璃部件。

• 光刻胶剥离：

  采用Novascan的热紫外线处理工艺，结合纯氧，可有效且无损地去除晶圆、硅、氮化硅、硼硅玻璃以及半导体表面上的光刻胶残留物。

美国Novascan 紫外线/臭氧清洁系统 PSD Pro系列（PSDP-UV）仪器

美国Novascan Technologies紫外线臭氧清洁产品 台式紫外线臭氧清洁器PSD系列仪器（PSD-UV）