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Novascan PSD Pro加热系列紫外线清洗机
The PSD Pro Heated Series UV Ozone Cleaner
PSD Pro加热系列产品（PSDP-UVT）在Pro系列的基础上实现了进一步的升级：它配备了温度控制系统，能够最大限度地破坏各种有机分子结构。数字控制器通过PID反馈回路来精确控制温度，最高可维持200摄氏度的稳定温度。（当然，也可以选择将温度设定为300摄氏度。）
Novascan PSD Pro加热系列紫外线清洗机特点/特色
有经济实惠型、样品处理阶段较短的型号，也有我们自主研发的、可调节样品处理高度的型号可供选择。
与PSDP相同，但出厂时已安装了温度调节装置。
具备最大的潜力与灵活性。
非常适合多用户使用环境
Novascan 紫外线清洗机应用事项/用途
去除有机污染物：
能够快速清除各种表面和材料上的油性有机污染物，这些表面和材料包括硼硅玻璃、砷化镓、ITO薄膜、硅片、玻璃、PDMS材料、原子力显微镜探针、聚合物等等。
半导体晶圆清洗与表面处理：
无需使用昂贵的高真空设备、复杂的湿法处理工艺或有毒化学物质，即可对各种类型的半导体晶圆进行无损表面清洁处理。这些半导体晶圆包括硅晶圆、磷化铟晶圆、砷化镓晶圆、锗晶圆、蓝宝石晶圆等等。这样一来，就能以最经济的方式获得理想的清洁效果。
扫描电子显微镜、透射电子显微镜、原子力显微镜与石英晶体微天平的应用领域：
准备并清洗用于扫描电子显微镜/透射电子显微镜观测的样品；对原子力显微镜的探针进行清洁处理并重复使用；同时，还要对石英晶体微天平传感器进行清洁处理，以便用于高分辨率成像、力学测量、化学检测与分析等用途。
玻璃表面清洁：
能够制备出亲水、无菌且表面状态良好的材料，适用于细胞培养、显微镜观察、原子力显微镜检测、PDMS微流控系统的组装等各种应用场景。
表面改性、表面活化与制备：
能够激活并提升材料的粘附性、结合力、润湿性等表面性能。
微流体装置：
清洗并准备用于微流体制造的PDMS材料及玻璃部件，为后续的组装和粘合工序做准备。
光刻胶剥离：
使用诺瓦斯坎公司的热紫外线处理工艺，结合纯氧进行处理，可以有效地、无损地去除晶圆、硅片、氮化硅材料、硼硅玻璃以及半导体表面上的光刻胶残留物。
Novascan 紫外线清洗机优势
Novascan公司的PSD、PSDP以及PSDP-Thermal系列紫外线臭氧表面清洁与活化系统：
Novascan提供多种台式紫外线臭氧清洗机型号，这些产品有不同的规格和配置选项，以便能满足您的具体需求和预算限制。
独特的样品放置装置，可实现360度全方位取样；同时也能适用于厚度较薄或较高的样品。
Novascan系列设备配备了我们自主研发的可调节高度的支架，这样就可以将用于处理的紫外线灯调整到合适的距离上，以便能够处理高度不超过100毫米的样品。此外，Novascan还推出了一种经济实惠的新型固定式支架装置，适用于处理高度低于15毫米的薄型样品。这种新型支架装置保留了我们原有设备的所有优秀特性和优势。
强大的高密度深紫外线石英格栅灯：
Novascan系统使用优质深紫外线石英灯管，这些灯管之间的间距非常小，从而能够实现最佳的覆盖效果。无论是对普通材料还是难以处理的材料而言，该系统都能带来更高效的表面清洁效果。
高度可升级且可定制的系统：
Novascan提供了多种紫外线系统方案，无论现在还是将来，都能满足您的各种应用需求。我们的紫外线系统采用模块化设计，因此可以随时进行升级改造，确保您的系统能随着项目的不断发展而保持其高效性。您还可以选择添加诸如热紫外线功能以提升清洁效果、使用更大功率的灯管来处理更大的样品，或者配备臭氧排放装置，这样您就可以在实验台上安全地使用该系统，而无需将其置于通风橱中。
有多种规格的系统可供选择，以满足您的应用需求：
尺寸范围从100×100毫米（4×4英寸）到500×500毫米（20×20英寸），这样就能根据您的样品大小以及您每次想要处理的样品数量来选择合适的尺寸。
固定高度系统或可调节高度系统：
对于晶圆、显微镜载玻片、盖玻片、原子力显微镜探针等物品，可以选择固定高度的样品台。而对于高度较高的样品，可选用可调节高度的样品台；其最大承重能力为4英寸高 olan样品；而用于紫外热处理系统的样品台，则最多可承受3.5英寸高的样品。
可靠性：
经过25年以上的验证，其可靠性极高。
