25 年多来,Novascan 一直致力于紫外(UV)系统的设计,并为全球数千家客户提供专业技术支持、销售和售后服务。
为了满足客户多样化的应用需求,我们提供多种规格的 UV 臭氧表面清洗与表面活化系统,处理面积从 100 × 100 mm 到 500 × 500 mm,并可配备多种不同类型的数字控制器及可选配置。
我们的系统提供操作简便的手动型和自动化型两种版本。
此外,如需了解更多详细信息,请查阅我们的 《UV 臭氧清洗机产品手册(UV Ozone Cleaner Brochure)》,或继续阅读下文了解更多产品信息及应用案例。

产品优势
Novascan PSD、PSDP 和 PSDP-Thermal 系列 UV 臭氧表面清洁与表面活化系统:
Novascan 提供多种台式 UV 臭氧清洗机型号、系统尺寸及配置选项,可满足不同应用需求和预算要求。
独特样品台设计,实现 360°样品访问以及薄/高样品处理:
Novascan 系统采用自主设计的可变高度样品台(Variable Height Stage),用于调节处理过程中关键的 UV 灯管与样品之间的距离。
可变高度系统可处理高度最高达 100 mm 的样品。
此外,Novascan 还提供经济型低样品固定高度系列(Low Sample Fixed Stage Series),适用于高度低于 15 mm 的薄型样品,同时保留原系统的大部分功能和优势。
高功率高密度深紫外石英网格灯:
Novascan 系统采用高品质深紫外石英灯,灯管间距紧密排列,可实现最大范围覆盖、更高的均匀性以及更快速、更高效的表面清洁性能,适用于普通材料以及难处理材料。
高度可升级和可定制系统:
Novascan 提供多种 UV 系统选项,可满足当前及未来不断变化的应用需求。
模块化 UV 系统设计支持后续升级,使系统能够随着项目发展和需求增长持续保持性能。
可增加以下选项:
- Thermal UV 热辅助 UV 功能,用于增强清洁效果;
- 更大尺寸灯管,用于处理更大样品;
- 臭氧排放装置(Ozone Evacuator),使系统可以安全地在实验台上使用,而无需放置于通风橱中。
多种系统尺寸,满足不同应用需求:
系统尺寸范围:
- 最小:100 × 100 mm(4 × 4 英寸)
- 最大:500 × 500 mm(20 × 20 英寸)
可根据样品尺寸以及一次处理的样品数量进行选择。
固定高度或可变高度系统:
- 固定高度系统:
适用于晶圆、显微镜载玻片、盖玻片、AFM 探针等薄型样品。 - 可变高度样品台:
可处理高度最高达 4 英寸(约100 mm)的样品;
UV Thermal 系统可处理最高约 3.5 英寸(约89 mm)的样品。
可靠性:
经过超过 25 年应用验证的高可靠性系统。
应用领域
去除和剥离有机污染物:
快速去除各种表面和材料上的油性有机污染物,例如:
半导体晶圆清洁和表面清洗:
可对各种半导体晶圆进行无损表面清洁,包括:
- 硅晶圆(Si)
- 磷化铟晶圆(InP)
- 砷化镓晶圆(GaAs)
- 锗晶圆(Ge)
- 蓝宝石晶圆(Sapphire)
无需昂贵的高真空设备、湿法工艺或有毒化学品,即可实现高质量表面清洁。
扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)及石英晶体微天平(QCM)应用:
用于:
- SEM / TEM 样品制备和清洁;
- AFM 探针清洁和重复使用;
- QCM 传感器清洁;
提升高分辨率成像、力测量、化学检测和分析效果。
玻璃表面清洁:
实现亲水、无菌、高洁净度玻璃表面,适用于:
- 细胞培养;
- 显微镜观察;
- AFM 分析;
- PDMS 微流控键合;
- 其他相关应用。
表面改性、表面活化及预处理:
用于:
- 提升表面活性;
- 增强粘附性能;
- 改善键合效果;
- 提高润湿性;
- 优化其他表面特性。
微流控器件:
用于清洁和处理:
- PDMS 组件;
- 玻璃组件;
为微流控器件制造和键合提供理想表面条件。
光刻胶去除:
Novascan Thermal UV 热辅助处理工艺结合纯氧气环境,可有效、无损地去除:
- 晶圆上的光刻胶残留;
- 硅(Si)表面;
- 氮化硅(Si₃N₄)表面;
- 硼硅玻璃;
- 半导体材料表面的光刻胶污染。
技术规格:Novascan UV 臭氧清洁产品
针对 PSD、PSDP 和 PSDP-UVT UV 清洗系统,提供多种有价值的选配功能,可根据您的具体应用需求对系统进行定制。
请查看以下各产品系列的功能特点及可选配置。
PSD 系列
PSD 系列仪器(PSD-UV)是采用数字控制的台式 UV 臭氧清洁系统,提供从 4×4 英寸至 20×20 英寸 多种尺寸规格。
该系列系统配备高功率 UV 网格灯系统,带有反射器以及可调高度样品台,可实现最佳样品定位和处理效果。
4×4 英寸及以上尺寸的系统可提供气体进/出口接口(In/Out Gas Ports)。
系统通过便捷的预设控制器进行操作,使使用过程更加简单方便。
特点
- 提供经济型低样品台(Low Sample Stage)型号,以及 Novascan 原始可变高度样品台(Variable Stage Height)型号。
- 易于使用的预设数字控制器。
- 便捷的双按键操作方式,简单直观。
- 自动化处理时间设置:
- 15 分钟
- 30 分钟
- 45 分钟
- 60 分钟
- 90 分钟
- 120 分钟
- 处理循环过程可随时手动中断。
- 系统可通过选配功能进行升级,例如增加 Thermal UV 温控样品台,但相比 PSDP 系列,升级过程不够简单且成本效益较低。
- 经济实用的设计,在降低成本的同时保持良好功能,是该系统广受欢迎的原因。
- 设置简单,操作方便。

PSD Pro 系列
PSD Pro 系列(PSDP-UV)仪器是研究级 UV/臭氧清洁系统,具有极高的灵活性,可用于分子有机物剥离以及多种其他应用。
系统可在环境空气中运行,也可以通过两个标准气体接口之一通入氧气,以提高臭氧产生量。
可编程数字控制器负责系统处理过程控制,确保精确的处理时间设定以及最佳清洁参数。
特点
- 提供经济型低样品台(Low Sample Stage)型号,以及 Novascan 原始可变高度样品台(Variable Stage Height)型号。
- 可编程数字控制器,实现更灵活、更精确的操作控制。
- 数字倒计时显示。
- 可轻松升级为温度控制系统。
- 具备“暂停(Pause)”和“中断(Interrupt)”功能。
- 功能强大的系统,提供增强型工艺过程控制。
- 内置存储功能,可保存之前的设置参数。

PSD Pro 加热系列
PSD Pro 加热系列(PSDP-UVT)在 Pro 系列强大功能的基础上进一步提升,增加了温度可控样品台,通过温度控制来最大程度地破坏分子级有机物材料。
配备带 PID 反馈回路的数字控制器,可精确维持最高 200°C 的稳定温度。(可选配最高 300°C 温度版本。)
特点
- 提供经济型低样品台(Low Sample Stage)型号,以及 Novascan 原始可变高度样品台(Variable Stage Height)型号。
- 与 PSDP 系列功能相同,但出厂时已安装温控样品台。
- 提供最大的应用潜力和灵活性。
- 非常适合多用户环境使用。

系统通用特点和信息
UV 网格灯(UV Grid Lamp):
采用可产生深紫外臭氧的汞蒸气网格灯,带反射器设计。灯管半衰期约为 5000 小时。Novascan 不惜成本,采用高品质、紧密排列的石英灯管,以实现最高紫外透过率和最均匀的覆盖效果。
电子系统(Electronics):
Novascan UV 系统专为长期可靠运行而设计,许多 UV 臭氧系统在使用 10 年以上后仍保持正常运行。我们采用高质量元件,例如超强大且可靠的线性电源,而不是廉价的开关电源。虽然生产成本更高,但 Novascan 认为,为了确保系统可靠性和安全性,使用符合 NRTL 认证的数字控制器、继电器、电源接口以及其他组件非常重要。所有系统均在美国组装。
模块化可升级设计(Modular Upgradable Designs):
Novascan 的使命是制造能够适应客户不断变化的应用需求和实验室需求的系统。因此,我们的设计具有高度模块化特点,支持未来升级,例如更换不同尺寸灯管、增加选配功能以及进行设计更新。
技术支持(Support):
所有 Novascan 系统均享有 Novascan 卓越的技术支持服务,由拥有硕士和博士学历的科学家及技术人员提供支持。
热 UV 系统(Thermal UV Systems):
增强型、更快速的处理方案,适用于光刻胶去除(resist stripping)、聚合物键合(polymer bonding)等应用,温度最高可达 200℃(可选 300℃)。
双 UV 系统(Dual UV Systems):
可选配顶部和底部双灯结构,实现样品两面的同步处理。
臭氧排除选项(Ozone Evacuator Option):
配备臭氧中和/消除装置,以及 PTFE 真空泵系统,用于 UV 处理周期结束后去除残余臭氧。该装置可使用户无需化学通风柜,即可安全地在实验台上操作 UV 臭氧系统。还提供自动臭氧排放系统选项。
电源(Power):
100、120、220、240 VAC,50–60 Hz。
安全保护(Safety):
安全联锁装置可在腔体打开时自动关闭 UV 灯。
样品高度(Sample Height):
所有系统均配备可调高度样品台,并带有外部样品台锁定机构,以确保样品与灯管之间保持正确距离。标准样品台尺寸等于或大于 UV 网格灯尺寸。
气体接口(Gas Ports):
标准配置两个接口,可选更多接口。
真空腔体(Vacuum Chamber):
可根据特殊订单提供铝制和石英材质真空腔体。
UV 反射器(UV Reflector):
UV 反射器通常比网格灯尺寸大 1 英寸。例如:4×4 英寸网格灯对应 5×5 英寸反射器。
电源(Power):
100、120、220、240 VAC,50–60 Hz。
样品装载(Sample Loading):
腔体采用向上翻转并远离样品台区域的铰链设计,可提供约 360° 的样品装载操作空间。
双 UV(Dual UV):
可选顶部和底部 UV 灯,实现样品双面同时处理。
PSD 和 PSDP 型号规格

Novascan UV 臭氧清洗机可以实现什么功能?
常见应用案例结果
案例 1:使疏水表面变得更加亲水
“全新”的玻璃载玻片和盖玻片表面通常并不是开箱即达到原子级洁净状态。这些表面可能会附着疏水性污染物。
使用 Novascan UV 臭氧清洗机,仅利用空气即可轻松、快速地将表面清洁至原子级洁净状态,使表面达到洁净且具有亲水性的状态。
下图为硼硅酸盐玻璃盖玻片上水滴的接触角图像,显示了在使用 Novascan UV 臭氧清洗机处理之前,表面所表现出的疏水特性。
对于硅、二氧化硅以及其他材料,也可以观察到类似的效果。

硼硅酸盐玻璃盖玻片上水滴的接触角图像显示,经过 Novascan UV 臭氧清洗机处理后,表面润湿性发生变化,转变为亲水状态。对于硅、二氧化硅以及其他材料,也可以观察到类似的效果。

案例研究 2:去除表面有机污染物
使用 Novascan UV 臭氧清洗系统对受污染玻璃载玻片表面进行原子级清洁处理前后的 AFM(原子力显微镜)研究。(注意:最后一张 AFM 图像采用了自动缩放处理,以显示玻璃表面的晶粒结构。)
使用 Novascan UV 臭氧清洗系统处理前,对严重污染的玻璃显微镜盖玻片进行扫描得到的原子力显微镜(AFM)图像。

使用 Novascan UV 臭氧清洗系统处理 10 分钟后,对严重污染的玻璃显微镜盖玻片进行扫描得到的原子力显微镜(AFM)图像。

使用 Novascan UV 臭氧清洗系统处理 20 分钟后,对严重污染的玻璃显微镜盖玻片进行扫描得到的原子力显微镜(AFM)图像。

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