Novascan,PSD,PSDP,Thermal系列,紫外臭氧清洗机
PSD、PSDP 和 Thermal 系列紫外线臭氧清洁器：
简介：PSD、PSDP 和 Thermal 系列紫外线臭氧清洁器
Novascan 的紫外线臭氧清洁器在工业、生产和学术实验室中得到了广泛应用和高度认可。它们用于紫外线清洁半导体晶圆、紫外线清洁液晶显示器表面、去除和剥离光刻胶、改善表面润湿性、紫外线清洁 AFM 探针/尖端、紫外线清洁 SEM 和 TEM 样品、紫外线聚合物激活、PDMS/玻璃微流控设备的组装/粘合、紫外线清洁玻璃等一系列紫外线臭氧清洁和氧化应用。（请参见下文典型应用列表。）
Novascan 紫外线臭氧清洁器通过使用强烈的185 nm 和 254 nm 紫外线光进行非酸性、干燥、非破坏性的原子级清洁和去除有机污染物，已证明其效果显著。在氧气存在下，185 nm 光线产生臭氧，而254 nm 光线激发表面的有机分子。这种组合可以迅速破坏和消灭有机污染物。
为了进一步增强处理效果，PSDP-UVT 紫外线臭氧清洁器利用紫外线臭氧和热处理阶段，通过提升样品表面的能量状态并驱除可能阻碍氧化的湿气层，实现更强效的清洁效果。
如图所示，使用 AFM 记录了有机污染物厚层的去除情况，曝光时间使用了简单的室内空气作为氧气来源（纯氧气可用于更受控和更强效的处理）。此外，接触角实验显示了紫外线臭氧处理后表面润湿性的显著改善
PSD 和 PSPD 系列紫外线清洁器 – 高性能紫外线臭氧清洁器： 紫外线臭氧清洁系统，尺寸从 4×4 英寸到 12×16 英寸 … 或根据特殊订单提供更大尺寸。
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PSDP-UVT 系列热紫外线臭氧清洁器 – 高性能热紫外线臭氧清洁器： 带有加热阶段和 PID 温控的紫外线臭氧清洁系统
案例研究 1： “全新”的玻璃载片和盖玻片表面通常在出厂时并不干净。使用 Novascan 紫外线臭氧清洁器，仅用室内空气就可以轻松快速地将表面清洁到原子级别
案例研究 2： 使用 Novascan 紫外线臭氧清洁器对污染的玻璃载片表面进行原子级清洁前后的原子力显微镜（AFM）研究（请注意，最后一张 AFM 图像中的数据进行了自动缩放，以显示玻璃的颗粒结构）
Novascan 紫外线臭氧清洁器：常见材料
- UV 清洁玻璃
- UV 清洁硅
- UV 清洁砷化镓
- UV 清洁 indium tin oxide（ITO）
- UV 清洁石英
- UV 清洁云母
- UV 清洁蓝宝石
- UV 氧化金属
- UV 清洁陶瓷
- UV 激活聚合物和交联聚合物
- UV 去除光刻胶
- UV 清洁晶圆
- UV 清洁生产线 LED 显示屏
- UV 清洁玻璃载片和玻璃盖玻片
- UV 清洁金表面
- UV 清洁铂表面
- UV 激活 PDMS 用于微流体装配
Novascan 紫外线臭氧清洁器：常见应用
- 使用 UV 臭氧对半导体硅晶圆进行原子级清洁。
- 消除对人体和环境有害的酸性和化学浴清洁方法。
- 使疏水表面变得更亲水。
- 快速简便地清洁 AFM、SEM 和 TEM 样品、表面及探针。
- 对玻璃载片和盖玻片进行原子级清洁。
- 细胞培养和细胞粘附表面准备。
- 为力谱研究做准备。
- 半导体表面的 UV 氧化和准备。
- LED 显示屏制造。
- 清洁敏感镜头和光学设备。
- UV 臭氧清洁后提高表面湿润性。
- 增强涂料、涂层、胶水和粘合剂的附着力。
- UV 臭氧清洁石英和陶瓷表面。
- UV 臭氧提升薄膜沉积质量。
- 聚合物和粘合剂的紫外线 (UV) 固化和交联。
- UV 表面图案化。
- UV 蚀刻和表面 UV 氧化。
- 有效的非破坏性、无真空替代等离子体清洁。
- UV 臭氧清洁器用于烷基硫醇、APTES、硅烷化及其他表面化学处理。
- UV 臭氧热处理
样本参考文献：Novascan 紫外线臭氧清洁器
- 低温键合 PMMA 和 COC 微流控基底使用 UV/臭氧表面处理
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Michal Tencer, Robert Charbonneau 和 Pierre Berini
书籍参考文献：紫外线臭氧清洁器
- 《生物医学中的微型设备》
Yaakov Nahmias, Sangeeta Bhatia – 2009 – ISBN=1596934050
替代方法：使用商业紫外线-臭氧（UV O3）源可以与下面所述的效果相同。 1.4.2.1 设备键合（使用 UV O3 表面处理） 1. 打开 UV O3 机器的盖子（Novascan PSD-UV 或 Jelight UV O3 42） - 《微流控生物分析与高灵敏度质谱的接口》
Chia-Wen Tsao – 2008 – ISBN=0549576304
评估 UV/O3 表面处理作为一种有效的低温聚合物微流控基底键合的方法。… 商业臭氧清洁系统（PSD-UV，Novascan Technologies, Ames, IA） - 《半导体器件制造中的清洁与表面处理技术》
T. Hattori, T. Hattori, J. Ruzyllo, R. Novak, P. Mertens, P. Besson, J. Ruzyllo – 2009 – ISBN=1566777429
UV O3 + 10 分钟。 UV O3 C-C, C-H C-O C=O 275 280 285 290 295 300 结合能（eV）原始 PR PMOS PR + 5” 烧灼 + 15” … 4 显示窄的光刻胶线条易于去除，而较大的光刻胶区域则不容易清洁。 - 《芯片实验室技术：制造与微流控》
K. E. Herold, Avraham Rasooly – 2009 – ISBN=1904455468
最近，结合 UV 光和光生氧自由基的表面处理已显示出…（Plaskolite） • PSD-UV 臭氧清洁系统（Novascan Technologies） A B • 真空烘箱（Sheldon Manufacturing） - 《MEMS 材料与工艺手册》
Reza Ghodssi, Pinyen Lin – 2011 – ISBN=0387473181
将干净的硅基底（表面无颗粒或污染）放入 UV O3 清洁器中，基底表面距离光源约 2 毫米，暴露 15 分钟。 b. 移除硅基底，并类似地放置 PDMS … - 《半结晶聚噻吩中的微观结构和电荷传输》
Leslie Hendrix Jimison – 2011
在薄膜沉积之前，清洁的表面经过 UV 臭氧处理（Novascan, PSD-UV, UV 表面污染系统）。此时，基底可以准备进行聚合物沉积或其他表面处理。 - 《化合物半导体的最先进程序 47》
J. Wang – 2007 – ISBN=156677571X
GaN 基底通过两种方式进行清洁，浸泡在 50% HCl 中 1 分钟（HCl 处理的 GaN），然后使用 Novascan PSD-UVT UV-臭氧系统进行 30 分钟的 UV-O3 处理（O3 处理的 GaN）。HCl … - 《表面、排序和脂质/聚合物系统的活性》
Shelli Lynne Frey – 2008 – ISBN=0549740295
使用的探针（Veeco Probes, Woodbury, NY），标称弹簧常数为 0.32 N/m；在取样之前，探针表面经过 UV 生成的臭氧清洁（PSD-UV 表面去污系统，Novascan, Ames, IA） - 《表面定制：用于摩擦学、生物学和催化应用的表面成分和结构修改》
Nicholas D. Spencer – 2011 – ISBN=9814289426
扫描电子显微镜图像显示 Novascan AFM 悬臂上的 SiO2 胶体微球作为探针，在使用后… 在进行力学测量之前，悬臂在 UV/臭氧清洁器中清洁了 30 分钟（UV/ Clean，型号…） - 《薄膜中的圆形纳米域表征》
Helene C. Maire – 2008 – ISBN=0549967222
使用 Novascan PSD-UVT UV-臭氧系统在氩气气氛下 λ=250nm 进行 80 分钟的 PMMA 域降解，经过 20 分钟的氩气清洁室排气。在 UV 曝露期间，PS 域… - 《细胞成像技术：方法与协议》
Douglas J. Taatjes, Brooke T. Mossman – 2006 – ISBN=1592599931
可选的臭氧/紫外线（紫外线）去污染室（例如 Ozone PSD-II；Novascan Technologies, Ames, IA）用于清洁和重复使用昂贵的定制 AFM 探针。 2.3. AFM 系统 1. 兼容原子力显微镜的…
https://www.bihec.com/novascan/PSD,PSDP,Thermal/
