Novascan PSD Pro系列紫外臭氧表面清洗与表面活化系统、Novascan台式紫外臭氧清洗机PSDP-UV
PSD Pro系列（PSDP-UV）仪器是研究级紫外/臭氧清洗系统，在分子级有机污染物剥离及众多其他应用中具备卓越的多功能性。可在环境空气中运行，或通过两个标准气孔之一通入氧气以提高臭氧产量。可编程数字控制器精确管理处理流程，确保精准的时序控制与最优清洗参数。
产品特点
提供高性价比低位样品台型号及经典可调样品台高度型号
可编程数字控制器实现精细化操作
数字倒计时显示
可轻松升级至温控系统
具备”暂停”与”中断”功能
强劲系统提供增强型工艺控制
内置存储器可保存历史参数设置
产品优势
诺瓦扫描PSD、PSDP及PSDP-热控系列紫外臭氧表面清洗与表面活化系统：
诺瓦扫描提供多款台式紫外臭氧清洗机型、系统规格及选配方案，满足不同应用需求与预算要求。
独特样品台支持360度操作并兼容薄型/高样品：
诺瓦扫描系统配备原创可调高度样品台，可精确设置紫外灯与样品的关键处理距离。可调高度机型可处理高达100mm的样品。另推出高性价比低位固定样品台系列，专用于处理高度低于15mm的薄型样品，同时保留原有系统的全部核心优势。
高性能高密度深紫外石英网格灯管：
采用顶级深紫外石英材质灯管，紧密排列的灯阵确保最大覆盖均匀性，对常规及特殊材料均能实现快速高效的表面清洁处理。
高度可升级与定制化系统：
诺瓦扫描提供丰富的紫外系统选配方案，既能满足当前应用需求，亦为未来需求预留空间。模块化设计使系统可持续升级，确保设备能力随项目发展同步拓展。可增配热控紫外模块（增强清洗应用）、大尺寸灯管（处理大样品）或臭氧抽排装置（实现在实验台安全操作而无需通风橱）。
多规格系统适配不同应用需求：
提供100x100mm（4×4英寸）至500x500mm（20×20英寸）多种尺寸，完美匹配样品尺寸与批量处理需求。
固定/可调高度系统选择：
固定高度机型适用于晶圆、显微镜载玻片、盖玻片、原子力显微镜探针等；可调高度样品台可处理最高4英寸（热控机型为3.5英寸）的高样品。
可靠性：
历经25年市场验证的高可靠性系统。
应用领域
有机污染物剥离与清除：
可快速清除硼硅玻璃、砷化镓、ITO导电玻璃、硅晶圆、玻璃、PDMS、原子力显微镜探针、聚合物等多种材料表面的油性有机污染物。
半导体晶圆清洗与表面清洁：
对所有类型半导体晶圆（硅晶圆、磷化铟(InP)晶圆、砷化镓(GaAs)晶圆、锗(Ge)晶圆、蓝宝石晶圆等）进行非破坏性表面清洁，无需昂贵的高真空系统、湿法工艺或有毒化学品即可获得理想效果。
扫描电子显微镜、透射电子显微镜、原子力显微镜与石英晶体微天平应用：
为SEM/TEM样品制备与清洁、AFM探针处理与重复使用、QCM传感器清洁提供解决方案，助力实现高分辨率成像、力测量、化学检测与分析。
玻璃表面清洁：
为细胞培养、显微镜观察、原子力显微镜检测、PDMS微流控键合等应用制备亲水性、无菌、洁净的玻璃表面。
表面改性、活化与预处理：
通过表面活化增强材料粘附性、键合性、润湿性及其他表面特性。
微流控器件处理：
用于微流控器件制造与键合过程中PDMS和玻璃元件的清洁预处理。
光刻胶剥离：
采用诺瓦扫描热控紫外处理工艺配合纯氧气，可对晶圆、硅、氮化硅、硼硅玻璃及半导体表面的光刻胶残留实现高效无损剥离。
