紫外 / 臭氧清洗系统
Novascan PSD 与 PSDP 系列紫外臭氧清洗设备已在全球拥有数千位使用者，是经过实践验证、性能稳定可靠的成熟仪器。如需根据自身工艺需求选配适配机型，可即刻联系获取专业选型支持。
适用工艺场景
- 表面原子级洁净处理
- 晶圆清洗
- 光刻胶剥离去除
- 聚合物、聚二甲基硅氧烷、环烯烃共聚物、聚苯乙烯键合预处理
- 薄膜制备前基底活化清洗
- 液晶显示屏清洗
- 有机分子剥离清除
- 释放基底吸附的无机残留分子
- 微流控芯片制备
- 原子力显微镜探针清洁
- 微纳图形加工
- 紫外固化胶、油墨等固化处理
- 材料表面化学改性
- 灭菌消毒
- 表面氧化改性
- 金属键合前预处理，以及其他更多工艺
典型应用领域
除上述工艺用途外，诺瓦斯坎 PSD 系列设备广泛应用于扫描探针显微分析相关实验。可彻底清除原子力显微镜探针、扫描探针显微镜标准样品及基底表面常见油污膜与无机杂质；
通过设备处理可改变材料表面疏水性，完成探针与基底表面化学改性；同时能对探针进行氧化硬化处理，在扫描过程中稳定探针形貌，打磨锐化探针尖端，提升设备横向成像分辨率。
诺瓦斯坎设备遍布全球纳米技术、化学、生物、光学、电子、半导体及各类科研实验室，采用本系列设备发表的专业文献数量持续增长。
设备核心优势
成熟可靠、操作简便、品质优异、经济实惠
适用样品基底材料
硅、氮化硅、硼硅玻璃、二氧化硅、云母、石英、各类金属、陶瓷、蓝宝石、砷化镓、聚二甲基硅氧烷等聚合物，以及其他各类材料
PSD 系列与 PSDP 系列设备性能、整机尺寸相近，区别在于控制器功能、可拓展升级能力以及加热载台选配方案。
一、PSD 标准系列
PSD 系列为台式数字化控制紫外臭氧清洗设备，台面尺寸覆盖 4×4 英寸至 20×20 英寸多种规格。
设备搭载大功率紫外灯栅模组，配备反光板，载台高度可自由调节，精准适配样品摆放，保障处理效果；4×4 英寸及以上型号标配进气 / 出气气路接口。整机搭载便捷的预设程序控制器，操作简单易上手。
产品特点
- 预设式数字控制器，操作简便直观
- 双按键简易操作，可设定自动工艺时长：15/30/45/60/90/120 分钟
- 工艺运行中可手动暂停中断
- 支持选配温控加热载台
- 高性价比实用型结构，市面主流选用机型
- 整机安装、调试简单
- 提供丰富拓展配件，可匹配各类实验需求（配件清单详见附录 B）
二、PSD Pro 专业系列（PSDP）
PSDP 系列为科研级紫外臭氧清洗设备，对有机分子剥离工艺适配性极强，拓展应用场景丰富。
可通入环境空气或纯氧气（双标准气口可选，通入氧气可大幅提升臭氧生成量）；搭载可编程数字控制器，精准管控整套工艺流程，实现高精度时序与清洗参数控制。
产品特点
- 可编程数字控制器，工艺调控自由度更高
- 数字倒计时显示屏
- 可升级加装温控加热载台
- 自带「暂停」「中断」功能键
- 大功率紫外模组，强化工艺处理能力
- 内置存储，可保存历史工艺参数
- 丰富选配配件，适配全场景实验需求（配件清单详见附录 B）
三、PSD Pro 加热系列（PSDP-UVT）
PSDP-UVT 在 PSDP 专业款基础上升级，标配温控加热载台，大幅提升有机分子降解去除效率；搭载带 PID 闭环反馈的数字控制器，最高稳定控温 150℃，200℃高温载台为可选配置。
产品特点
- 机身主体与 PSDP 完全一致，出厂预装温控加热载台
- 拓展潜力与适配灵活性拉满
- 适配多类高温工况实验环境
- 全系列通用丰富选配配件（配件清单详见附录 B）
四、全系列通用硬件参数与基础配置
PSD 与 PSDP 系列工作原理
PSD、PSDP 系列设备依靠185nm、254nm 两种高能紫外光分解有机分子（污染物）：
- 185nm 紫外光：激发氧气 O₂生成活性臭氧自由基 O₃；
- 254nm 紫外光：同步激发样品表面有机分子，使其化学键变得极易被臭氧自由基氧化分解。
臭氧半衰期短，且会被 254nm 紫外光分解；设备配备高度可调样品载台，可精准调节样品与灯管距离，实现最优清洗效果。
被分解的污染物最终转化为二氧化碳、水蒸气排出；剩余臭氧会还原为氧气 O₂。
附图说明（玻璃载玻片污染形貌对比）
- 左图：原始带有污染物的实验室玻璃载玻片
- 中图：PSD 设备处理 10 分钟后的玻璃载玻片
- 右图：PSD 设备处理 20 分钟后的玻璃载玻片
直观体现随处理时长增加，表面污染物逐步被清除。
二、PSD/PSDP 全型号规格表
备注：紫外灯栅实际尺寸大于表中标称尺寸，有效紫外清洗区域比标注灯管尺寸大 1 英寸；支持设备定制与改造，可咨询。
产臭氧型汞灯栅发射光谱曲线图，展示灯管紫外光能量分布。
PSD、PSDP 及 PSDP 热辅助紫外臭氧系统选配组件
Novascan 紫外臭氧设备选配件 —— 绝大多数基础机型均可加装
选配组件 A：可调载台组件（用于紫外强度调控与大高度样品处理）
- 通过将样品置于最佳距离位置，平衡紫外光强与臭氧浓度，实现最优处理效果；
- 针对需低紫外辐照强度的工艺，可通过调节载台高度精准控制紫外照射强度；
- 拓展载台升降行程与腔体有效处理空间；
- 升降调节范围 0~4 英寸（0~100 毫米），短、高型样品均可适配处理。
选配组件 B：微处理器控制模块
- 可精准输入曝光与工艺处理时长，支持工艺暂停、重启，并自动记忆上一次运行参数；
- 操作简单，几乎无需培训即可上手；
- 预留热辅助紫外臭氧（ThUV-O3）程序接口，后续可升级热辅助工艺功能；
- 预留上下双灯同步样品处理功能的升级程序接口。
选配组件 C：热辅助紫外臭氧模块（ThUV-O3）
- 相比标准常温紫外臭氧工艺，该模块提升处理效率：升温提高材料表面能，污染物更易在紫外 + 臭氧协同作用下分解；
- 典型应用场景：光刻胶剥离、晶圆清洗、PDMS 改性、键合预处理、玻璃清洗、各类聚合物表面处理等；
- 搭载 PID 闭环反馈回路精准控温；
- 多功能灵活适配：可单独紫外处理、紫外 + 加热协同处理，也可仅做高温热处理。
选配组件 D：臭氧抽排中和装置
- 臭氧具有强刺激性，多数实验室存在职业健康安全管控要求；本装置可在高强度紫外工艺后，安全、便捷地抽排并中和残留臭氧与单原子氧；
- 配备该装置后，设备可直接放置普通实验台使用，无需配套通风橱或其他臭氧处理设施；
- 工艺结束后可快速取出样品，无需长时间等待臭氧自然分解；
- 适配实验室常规墙面电压插座供电；
- 可放置于中小型 Novascan 紫外臭氧设备旁侧或底部，节省台面空间；
- 分为手动控制、全自动抽排两种版本可选。
选配组件 E：可控气氛石英气体流通池组件
该流通池组件可在高度可控的密闭环境下，对样品进行紫外、臭氧或其他特种气体协同处理。
- 标准紫外工艺通常使用高纯氧气；针对非氧化类实验，可便捷更换其他工艺气体通入腔体。
- 可用于材料表面化学改性工艺：样品先完成紫外处理，全程不暴露于大气环境，直接同步开展后续化学改性。
- 密封石英窗口流通腔体，标配单层顶部透光窗，可选配上下双层透光窗。
- 腔体容积小，气体置换速度快。
- 可选加厚石英窗版本，适配高真空工况实验。
- 腔体内径 5 英寸。
- 多组进气、出气接口，方便气路拓展。
- 无需外接供电即可运行。
- 气路可直接对接 Novascan 臭氧抽排中和装置，也可搭配鼓泡器、通风橱等外部设备配套使用。
选配组件 F：上下双面同步样品处理组件
- 支持样品上、下表面同时紫外处理，大幅节省工艺时长、提升实验效率，尤其适用于晶圆双面加工等样品。
- 搭载双路供电模块与上下双紫外灯，臭氧生成量最高可达普通单灯机型的两倍。
- 操作模式可自由切换：仅顶部灯管、仅底部灯管、上下灯管同步工作。
- 可搭配双层石英窗流通池组件配套使用。
- 标配细网金属样品托，保证底部紫外光可穿透照射样品底面；另可选配石英样品托，也可按需定制机加工样品架、晶圆载盘。
