消除苛刻的等离子体，酸，化学蚀刻，以实现亲水性原子清洁表面，UV臭氧清洁晶圆，玻璃，硅，UV键，氧化，清洁SEM TEMAFM样品和探针，键合PDMS，幻灯片盖等。
PSD, PSDP和热系列紫外线臭氧清洁剂:用于Átomically清洁表面，紫外线氧化，紫外线杀菌和紫外线热处理
介绍:PSD, PSDP和热系列紫外臭氧清洗机
Novascan的UV – UV臭氧清洗剂广泛应用于工业，生产和学术实验室，用于UV清洁半导体晶圆，制造过程中的UV清洁LCD表面，去除和去除光刻胶，改善表面润湿性，UV清洁AFM探针/尖端，UV清洁SEM和TEM样品，UV聚合物活化，PDMS/玻璃微流控装置的组装/粘合，UV清洁玻璃和许多其他UV臭氧清洁和氧化应用。(以下是典型应用的列表。)
Novascan UV臭氧清洁剂已被证明是非常有效的非酸性，干燥，非破坏性的原子清洁和去除有机污染物使用强烈的185 nm和254 nm紫外线。在氧气存在的情况下，185线产生臭氧，而254线激发表面的有机分子。这种组合驱动了有机污染物的快速破坏和大量减少。
为了进一步加强处理，PSDP-UVT紫外线臭氧清洁剂利用紫外线臭氧和热阶段，通过提高样品表面的能量状态，并通过驱动可以阻止氧化的湿度层，以达到更积极的效果。
如下图所示，AFM用于记录使用简单的室内空气作为氧气源(纯氧气可用于更可控和更积极的处理)的暴露时间对厚有机污染物的去除。此外，接触角实验表明，紫外线臭氧处理后表面润湿性显著改善。
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- **用于晶圆片和其他表面的顶部和底部双灯紫外线清洁系统。请查询。
- PSDP-UVT系列热紫外臭氧清洗机:具有加热级和PID温度控制的UV臭氧清洗系统
案例研究1:“新”玻片和盖盖表面通常在开箱后不干净。使用Novascan UV臭氧清洁剂，只需室内空气，即可轻松快速地将表面清洁到原子水平。
案例研究2:使用NovascanUV臭氧清洗机进行原子清洗前后受污染玻璃载玻片表面的AFM研究(注意，最后一张AFM图像中的数据是自动缩放的，以显示玻璃颗粒)
Novascan紫外线臭氧清洁剂:常用材料
- 紫外线清洁玻璃
- 紫外线清洁硅
- 紫外线清洁砷化镓
- UV清洁ITO
- UV清洁石英
- 紫外线清洁云母
- UV清洁蓝宝石
- 紫外线氧化金属
- UV清洁陶瓷
- UV激活聚合物和交联聚合物
- UV条光抗蚀剂/光抗蚀剂
- UV清洁晶圆片
- 紫外线清洁生产线LED显示屏
- UV清洁玻璃载玻片和玻璃盖
- UV清洁金表面
- UV清洁铂表面
- UV激活PDMS用于微流体组件
Novascan紫外线臭氧清洁剂:常用应用
- 使用紫外臭氧原子清洁半导体硅晶圆
- 消除对人体和环境有害的酸洗和化学浴清洗方法
- 使疏水表面更亲水
- 快速和简单的方法清洁AFM, SEM和TEM样品，表面和探针UV臭氧
- 原子清洁玻璃侧面和盖子
- 细胞培养及细胞粘附表面制备
- 力谱学研究的准备
- 半导体表面UV氧化及制备
- 用于制造LED显示屏
- 清洁敏感镜片和光学元件
- 增加表面润湿性后，紫外线臭氧清洗
- 增强油漆、涂料、胶水和粘合剂的附着力
- 紫外线臭氧清洗石英和陶瓷表面
- UV臭氧改善薄膜沉积质量
- 紫外线(UV)固化和交联的聚合物和粘合剂
- UV表面图案化
- UV蚀刻和表面UV氧化
- 一种有效的、非破坏性的、非真空的等离子清洁替代品
- UV臭氧清洗剂用于烷硫醇、APTES、硅烷化等表面化学的制备
- 紫外臭氧热处理
