美国Nonsequitur Technologies,离子枪1403CS型,铯离子枪,用户可更换的晶体离子源,允许生产各种离子种类可调节点尺寸,范围从75微米到>1毫米,实现空间定义的溅射 2025年11月18日 杨辉 19821065355（微信同号）
美国Nonsequitur Technologies,离子枪1402W型,低能离子枪,集成维也纳滤波器,聚焦柱优化为低能量通量,高亮度电子冲击源,以最大限度地去除散装材料 2025年11月18日 杨辉 19821065355（微信同号）
美国Nonsequitur Technologies,离子枪1450型,高能离子枪,发射调节轰击提供稳定的离子电流,可调节斑点尺寸≥为5微米,空间定义的溅射或植入 2025年11月18日 杨辉 19821065355（微信同号）
美国Nonsequitur Technologies,离子枪1407型,高电流密度斑点,具有传统电子冲击电离源的双层母体级别性能,应用包括在需要小坑以避免邻近样品区域损伤时进行螺旋钻或SIMS深度剖面,以及TEM/SEM样品的制备 2025年11月18日 杨辉 19821065355（微信同号）
美国Nonsequitur Technologies,散装刻蚀离子源,离子枪1403型TOF-SIMS型,高亮度电子冲击源,以最大限度地去除散装材料 2025年11月18日 杨辉 19821065355（微信同号）
美国Nonsequitur Technologies,离子枪,能量<10kV,1402型,具有极低能量下的高光束电流,也可以在高能量（最高可达5keV）下运行，以提供额外的深度剖面和样品清洁能力 2025年11月18日 杨辉 19821065355（微信同号）
美国Nonsequitur Technologies,离子枪1401型,通用溅射深度剖面,用于表面化学实验,如样品制备和深度剖面,使用螺旋孔和ESCA,它可以与惰性气体一起使用 2025年11月18日 杨辉 19821065355（微信同号）
