Nonsequitur 1401 型非常适合用于表面化学实验，例如使用 Auger 和 ESCA 进行样品制备和深度剖析。可与惰性气体一起使用。

在 25mm 的工作距离下，该离子枪的电流为 20μA 射入直径为 0.4mm 的光斑，可提供 10 倍于其他常用离子枪的电流密度。从前面板选择光束电流为 1μA 时低至 50μm 的光斑尺寸。电子束能量在 5eV 到 5kV 之间变化，同时保持对样品的最佳聚焦。光束电流可在很宽的范围内独立于光束电压进行调节，并且无需外部设备即可从前面板进行测量。

离子是通过电子碰撞产生的，双灯丝可延长离子源的使用寿命，而无需破坏系统。离子真空源细丝离轴，以防止细丝材料在视线上沉积到样品上。离子源可以直接以差动方式泵入系统，也可以通过单独的涡轮分子泵来提高系统真空度。

Nonsequitur Technologies1401离子枪带有电源和扫描电子元件的控制器安装在一个 5-1/4 英寸高的 19 英寸机架安装机柜中。离子枪可以从前面板或通过灵活的界面进行控制，从而允许控制光束和聚焦电压、电离电流、气体、光束开/关和光栅。光栅扫描以数字方式生成，以实现均匀的刻蚀速率。

Nonsequitur Technologies1401离子枪特点：

• 高电流密度 15 至 50 mA/cm²，具体取决于所选的光斑尺寸。

• 独特的离子源设计，发射稳定。

• 双钨丝，典型钨丝寿命> 500 小时。氧化钇涂层铱可选。可更换光束调整孔径，典型使用寿命> 500 小时。

• 制造中使用的所有 UHV 兼容和抗蚀刻材料。

• 差速泵送，以最大限度地减少主室气体负载。

• 喷枪易于拆卸进行维护。

• 电气连接和进气口位于单个法兰上，便于安装。

• 预设的提取和聚光镜参数（三种光斑大小设置），可实现可重复操作。积分光束电流测量。

• 直接测量离子源压力。

• 系统和电缆联锁装置可防止在真空不良或电缆移除的情况下通电。

• 电源和光栅发生器位于单个 51/4 高的 19 英寸机架安装外壳中。

• 数字生成的光栅选项，用于均匀的蚀刻轮廓。计算机控制选项。可选的离子源压力调节。

Nonsequitur Technologies1401离子枪规格：