Nonsequitur Technologies 1407 型离子枪具有来自传统电子碰撞电离源的双等离子加速器级性能。应用包括Auger or SIMS 深度剖分，其中需要一个小凹坑以避免损坏相邻样品区域，以及 TEM/SEM 样品制备。可达到的非常高的刻蚀速率也允许该色谱柱用于厚膜和微观结构的切片。
Nonsequitur Technologies 1407 型离子枪其他应用还包括：离子铣削/微加工和半导体散装材料去除。离子产生是通过双灯丝的电子碰撞电离实现的，无需打破系统真空即可延长离子源寿命。该源旨在防止细丝材料在视线上沉积到样品上。光学柱包括一个用于测量光束电流的一体式法拉第杯。光束扫描/偏转是通过物镜前的八极杆结构完成的。这可以校正由于光束偏转引起的散光。
Nonsequitur Technologies 1407 型离子枪设计特点：
独特的离子源，发射稳定
双钨合金细丝
UHV 结构
电源和偏转电源集成在一个 51/4 19“ 机架安装中
电气连接和进气口均位于外壳后部，简化操作
Nonsequitur Technologies 1407 型离子枪设计规格：
元件 | 描述 |
|---|---|
光束能量 | 5eV 至 5000eV 连续可变 |
束流 | 最大 20μA @ 5keV 束能量 |
光斑尺寸 （FWHM） | 15μm @500nAkeV、20μm @2μA、75μm @20uA、5kV、10mm W.D. |
电气 | 115/220V 50/60Hz 自动选择 |
法兰 | 4.50 或 6.00 CFF 用于安装，2.75CFF 泵送，1.33 （34mm） CFF 进气口。 |
