美国Nonsequitur Technologies,离子枪1450型,高能离子枪,发射调节轰击提供稳定的离子电流,可调节斑点尺寸≥为5微米,空间定义的溅射或植入

美国Nonsequitur Technologies,离子枪1450型,高能离子枪,发射调节轰击提供稳定的离子电流,可调节斑点尺寸≥为5微米,空间定义的溅射或植入

离子枪1450型

高能离子枪

  • 可调节斑点尺寸≥为5微米,空间定义的溅射或植入

  • 发射调节轰击提供稳定的离子电流

  • 连续可变束能量 5kV 至 50kV

  • 双重八极光束扫描和散光校正

  • 预物镜扫描以减少斑点大小

  • 为了避免样品污染,没有直接的灯丝连接到样品视线

  • 客户可更换的灯丝和光束修剪孔径

  • 双丝在耗材寿命终止时提供运行备份

  • 所有用于制造的UHV兼容且抗蚀蚀材料

  • 差动泵送以减少主腔室气体负荷

  • 工作范围涵盖惰性气体和氮气

模式
点状尺寸(μm FWHM)
束流
电流密度(A/cm²)
大点
25
20μA
4
中点
8
5μA
10
小点
5
500nA
2.5
元件
描述
输入功率
115/230VAC 50/60Hz 自动选择
束流能量
0-50,000伏,1毫安
聚焦,电容
0-40,000伏,1mA
丝材功率
发射规定,5V,最大5安培
电离
电子加速电压和发射软件可选择
离子提取
0-2500V软件可选
挠度
+X、-Y、+Y和-Y的+/-400VDV电源。其余八极元件由电阻分压器网络供电。可选8通道偏转电源,具散光校正和次级电子成像功能
联 锁
系统与辅助联锁
用户界面
基于USB的图形用户界面
底盘尺寸
483(宽) x 267(高) x 435(深) 毫米。机架安装机箱 6U

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