Nonsequitur Technologies 1407型离子枪具有传统电子冲击电离源的双层母体级别性能。应用包括在需要小坑以避免邻近样品区域损伤时进行螺旋钻或SIMS深度剖面，以及TEM/SEM样品的制备。极高的刻蚀速率也使该柱可用于厚薄膜和微观结构的切片。

其他应用还包括离子铣削/微加工和半导体散装材料去除。离子的产生通过双丝电子冲击电离实现，以延长源寿命且无需打破系统真空。该源设计用于防止丝材在样品上的直视沉积。光学柱内包含一体化的法拉第杯，用于测量束流电流。光束扫描/转向通过在物镜前的八极结构实现。这可以纠正由于光束偏转引起的散光

• 稳定发射的唯一离子源

• 双钨合金灯丝

• 超高真空结构

• 电源和偏转电源集成在一个51/4英寸的19英寸机架式中

• 电气连接和气体入口全部位于外壳后方，以便简化