铯离子枪

• 用户可更换的晶体离子源，允许生产各种离子种类

• 可调节点尺寸，范围从75微米到>1毫米，实现空间定义的溅射

• 连续可变束流能量最高可达5keV

• 利用束束弯曲光学进行中性物种抑制

• TOF SIMS的束束消隐能力

• 集成束流监测能力

• 可选束束聚集电极

• 所有用于制造的UHV兼容且抗蚀蚀材料

• 预物镜偏转以减少黑斑大小

• 差动泵送以减少主腔室气体负荷