20kV 离子枪

• 光斑尺寸可调 ≥ 5um，用于空间定义的溅射或注入

• 发射调节轰击提供稳定的离子电流

• 连续可变光束能量 5kV 至 20kV

• 用于光束扫描和像散校正的双八极杆

• 用于减小光斑尺寸的物镜前扫描

• 无需将细丝直接连接到样品视线，以避免样品污染

• 客户可更换的细丝和光束修整孔径

• 双线材可在线材使用寿命结束时提供运行备份

• 制造中使用的所有 UHV 兼容和抗蚀刻材料

• 差速泵送，以最大限度地减少主室气体负荷

• 在惰性气体和氮气范围内运行

• 钍涂层铱丝，用于氧气操作

• 可变孔径，光斑尺寸低至 1 微米

• 用于快速光束脉冲的盲板

• 碱金属源，用于处理 Cs、Li、Na、K 等

• 源烘箱，允许产生可蒸发材料的离子

• 带集成 Wien 滤波器的源

• 特征	描述
  输入功率	115/230V AC 50/60Hz 自动选择
  光束能量	0 – 20000V，1mA
  对焦、聚光镜	0 – 20000V，1mA
  灯丝功率	辐射调节，5V，最大 5A
  电离	电子加速电压和发射软件可选
  离子萃取	0-2500V 软件可选
  挠度	±400V DV 电源用于 +X、-Y、+Y 和 -Y。其余八极元件由电阻分压器网络供电。可选的 8 通道偏转电源，具有像散校正和二次电子成像功能
  联 锁	系统和辅助联锁装置
  用户界面	基于 USB 的图形用户界面
  机箱尺寸	483（宽） x 267（高） x 435（深） 毫米。19 英寸机架安装机箱 6U 高