美国Nonsequitur Technologies,离子枪1407型,高电流密度斑点,具有传统电子冲击电离源的双层母体级别性能,应用包括在需要小坑以避免邻近样品区域损伤时进行螺旋钻或SIMS深度剖面,以及TEM/SEM样品的制备 2025年11月18日 杨辉 19821065355（微信同号）
美国Nonsequitur Technologies,散装刻蚀离子源,离子枪1403型TOF-SIMS型,高亮度电子冲击源,以最大限度地去除散装材料 2025年11月18日 杨辉 19821065355（微信同号）
美国Nonsequitur Technologies,离子枪,能量<10kV,1402型,具有极低能量下的高光束电流,也可以在高能量（最高可达5keV）下运行，以提供额外的深度剖面和样品清洁能力 2025年11月18日 杨辉 19821065355（微信同号）
美国 Nonsequitur Technologies,离子枪,电能 < 10kV,离子枪 Model 1402,低能量离子枪,针对低能量通量优化的聚焦柱 2024年10月12日 杨辉 19821065355（微信同号）
美国 Nonsequitur Technologies,离子枪1401 型,NTI 离子枪,电能 < 10kV,用于表面化学实验,通用溅射 2024年10月12日 杨辉 19821065355（微信同号）
