LK2000 高分辨率电子能量损失光谱仪 EELS 吸附物的振动频率 吸附物的分子结构 表面键合强度 吸附几何 表面化学

汪经理 电话：17717301704

高分辨率电子能量损失光谱（EELS）是一种强大的表面分析技术，能够在高真空环境下对金属和半导体表面进行独特的振动分析。绝缘体和聚合物薄膜在适当条件下也可以进行分析。EELS能够提供以下重要信息：

值得注意的是，EELS比红外光谱具有更高的表面灵敏度和更广的光谱范围。例如，可以在几分钟内扫描200-5000 cm⁻¹的光谱范围，并且可以检测到少于10⁻³单层的吸附CO。与红外光谱不同，EELS不受严格的偶极选择规则的限制，这些规则常常妨碍重要模式和吸附物的观察。在EELS中，长程偶极和短程“冲击”散射机制都能有效工作，并可以根据散射角度和冲击能量进行研究。例如，显示弱偶极活性的分子吸附物可以在冲击散射区被检测到。EELS获得的信息理想地补充了由奥杰电子谱（Auger）、ESCA、LEED、SIMS、STM和其他表面探针获得的数据，并为实验者提供了更容易的解释。

LK2000光谱仪

自1986年商业化推出以来，LK2000高分辨率EELS光谱仪因其出色的性能，在国际上获得了广泛认可。这个声誉建立在我们对可靠性、客户满意度以及持续改进仪器的承诺上。LK2000的专利电子光学系统和创新的计算机控制是将EELS技术从过去仅限于专家使用的精密技术，变成了表面科学家用于振动光谱的“工作马”的主要因素。LK2000已经广泛应用于全球的工业和学术实验室，成功应用于多种问题的解决，包括金属上碳氢化学吸附（催化）、硅片清洗技术分析、聚合物薄膜表征、C60薄膜研究等。

特点

  • 分辨率：3 meV（FWHM）及以下

  • 双通道单色仪

  • 优越的单色电流和计数率

  • 极低的光谱背景，无“幽灵”峰

  • 主光束能量可调：0-240 eV

  • 日常操作简便

  • 提供固定或可旋转分析仪

  • 标配双磁屏蔽

  • 低噪声，高稳定性电源

  • 计算机控制电子系统，配有自动调谐软件

  • 提供完整的UHV系统

LK2000配备了双通道127°单色仪，具有卓越的电流和极低的光谱背景，并与单通道分析仪配合使用。仪器的分辨率保证为3 meV，结合了非常高的信号水平。此外，LK2000提供三种标准安装配置，便于系统集成。

LK Technologies率先推出了完全计算机控制的电子系统（型号LK2000-DAC）。这一创新的PC基础系统配有菜单驱动的软件，允许设置和优化所有光谱仪电压，并监控关键电流水平。通过读取和存储光谱仪设置的完整表格，提供了传统EELS电源无法比拟的速度和灵活性。这是唯一提供高级软件的商业系统，用于自动优化信号水平和峰形。该集成系统包括信号恢复电子学和菜单驱动的软件，用于采集、显示和分析EELS振动光谱。

性能规格

  1. 能量分辨率与电流

    • FWHM：

      • 3 meV：> 100 pA

      • 4 meV：> 180 pA

      • 6 meV：> 350 pA

    • 探测器电流*：

      • 10 pA

      • 20 pA

      • 60 pA

      • *在直接光束几何条件下测量

  2. 信号水平

    • 弹性通道中的典型计数率为：3-6 meV系统分辨率下，10 KHz到3 MHz。计数率是样品状态和主光束能量的强函数。

  3. 背景

    • 弹性通道强度与背景强度的比率在25 meV能量损失及以上时大于10⁵（仪器背景）。

  4. 主能量

    • 可变范围：0-240 eV

    • 样品偏置：±15 V

  5. 能量扫描：

    • 从5 eV（增益）到+15 eV损失能量（可选+50 eV）

  6. 计算机控制电子学

    • 操作范围：240 eV光束能量

    • 低噪声：波纹小于250µV P-P

    • 漂移：小于1 mV/周

    • 易于读取所有光谱仪电压和关键电流

    • 完全光学隔离

    • 软件允许手动或自动优化光谱仪电压

规格

型号 LK2000-14 或型号 LK2000-10 高分辨率 EELS 光谱仪
法兰安装光谱仪，具有刚性光学系统，包括所有电气穿透装置、电子倍增器和磁屏蔽。详细尺寸见宣传册。

型号 LK2000-14-R 高分辨率 EELS 光谱仪
法兰安装光谱仪，配有55度精密旋转分析仪，包括所有电气穿透装置、电子倍增器和磁屏蔽。详细尺寸见宣传册。

型号 LK2000-DAC
数字控制电子系统包。包括对光谱仪电压的数字控制和关键电流的读取。该包包括皮安计、噪声抑制滤波器、电源、386 PC/AT 配色显示器、硬盘、双软盘、图形卡和接口设备。包括用于数据采集、自动优化和控制光谱仪电压的菜单驱动软件。包括型号 LK2000-CE 计数电子学包以及必要的接口。

型号 LK2000-CE
计数电子学包，包含前置放大器、放大器/鉴别器、计速计（1 MHz）、11V电子倍增器电源和NIM-bin电源。

UHV 系统
为 LK2000 系列 EELS 光谱仪提供完整的超高真空系统。这些系统通常包括定制的不锈钢真空腔、离子泵和/或涡轮分子泵，以及具有加热/冷却选项的精密样品操作。

应用于 UPS
LK2000 的高分辨率分析仪也可以作为角度分辨型仪器，用于光电子能谱（UPS）研究，适用于实验室或同步辐射光源。请联系 LK Technologies 获取该应用的最新信息。

机械规格：

  • 安装在10英寸或14英寸外径 CFF 标准法兰上（根据要求提供定制设计）

  • 与8英寸或12英寸外径的联接板兼容

  • 法兰到焦点的距离：12英寸

  • UHV腔体尺寸：12英寸和18英寸外径

  • 提供多种样品接入模式

  • 单元可在200°C下烘烤


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