LK Technologies 的 NGI3000 型离子枪及其控制电子设备，专为通过离子溅射进行表面清洗而设计，束能最高可达 3 keV，离子电流最高 25 µA。该离子枪采用了一种创新的气体注入系统，使得在典型腔体压力 1 × 10⁻⁶ Torr 下即可实现稳定的溅射过程。
这一技术大大降低了气体负载，相较于传统离子枪（通常需将腔体回充至约 5 × 10⁻⁵ Torr），可显著缩短抽气时间，并减少因气体杂质带来的问题。
该气体注入系统还使 NGI3000 可直接用于 离子散射谱（ISS） 及其他离子光谱分析，无需昂贵的差动抽气装置。在标准配置下，离子枪可发出宽离子束，确保对样品的均匀溅射，满足多数样品清洁应用的要求。
一个完整的溅射蚀刻系统通常包括：
NGI3000 离子枪
NGI3000-SE 控制电子设备
NGI3000-LV 泄漏阀
该系统性价比高，并提供两种标准枪体长度（详见尺寸图），可广泛应用于各类常规溅射清洗及 ISS 分析任务。
性能特点
专利气体注入系统，无需昂贵的差动抽气设备
惰性气体溅射，低腔体压力（约 10⁻⁶ Torr）
宽离子束，实现均匀溅射
与常规的溅射清洗及 ISS 应用兼容
束电压连续可调，最高至 3 kV
性能数据
表 1：样品电流与束电压（枪距 2.5 cm，发射电流 20 mA）
| 束电压 (kV) | 样品电流 (µA) |
|---|---|
| 0.50 | 12 |
| 1.00 | 19 |
| 2.00 | 25 |
| 3.00* | 28* |
* 电流密度超过 100 µA/cm²
表 2：束斑直径与枪-样品距离
| 枪距 (cm) | 束斑直径 (FWHM) (mm) |
|---|---|
| 1.5 | 6 |
| 2.5 | 8 |
| 14.0 | 30 |
技术参数
束电压：0.1 – 3 kV，连续可调
离子源类型：电子轰击提取型
灯丝：可更换，钍钨丝（thoriated iridium）
束电流：额定最大 25 µA，发射电流 20 mA，电流密度 > 100 µA/cm²
束直径：高斯形束斑，随目标距离变化，典型值为 2.5 cm 时约 8 mm
安装法兰：2.75 英寸外径 CF 法兰，带 4 个 SHV 接头
气体进气口：法兰上集成泄漏阀
离子源工作压力：约 5 × 10⁻⁵ Torr
腔体工作压力：约 1 × 10⁻⁶ Torr（150 L/s 抽气系统）
差动抽气：不需要
控制电子设备：机架安装，前面板可调束电压与发射电流，带电流测量功能
