程序升温脱附(TPD)是一种强大的材料分析工具,通过加热样品并监测其释放至气相的杂质,实现对材料表面和近表面区域的敏感分析。
我们的 TDS1000 系统 是一款高度集成的分析设备,能够以高灵敏度和定量校准功能获取高质量的 TPD 光谱。
主要特点包括:
灵活的系统设计,便于经济高效地扩展其他表面分析工具
特别屏蔽的质谱探头,实现高灵敏度检测
样品加载后可快速抽真空至 10⁻⁸ Torr 级别
水冷样品台,有效降低背景气体干扰,并实现样品的快速冷却
可转移式样品托盘,配备内置加热元件与两个热电偶读取接口,实现准确的样品温度测量
TDS1000 系统,推进程序升温脱附研究的科学发展
TDS1000 是一款高度集成的表面科学分析系统,能够帮助研究人员定量分析样品在加热过程中释放出的化学物种。
典型操作温度范围为室温至 900°C,质谱分析范围为 1–200 AMU。
系统核心部件是热脱附光谱(TDS)探头,可实时检测样品释放出的质量信号。该探头配备特殊屏蔽的质谱仪及控制软件,能够获取高灵敏度的质量信号与样品温度之间的数据。
系统组成与技术参数:
屏蔽质谱探头
标准质量范围:1–200 AMU
热脱附腔体
配备离子规
真空系统
250 L/S 涡轮分子泵
干式前级泵
钛升华泵
配备常温屏蔽层
XYZR 精密样品操控器
可转移式样品托与加热器
支持样品尺寸:最大 1.00 x 1.00 英寸
温度测量
两个可转移式热电偶,实现高精度样品温度读取
加载锁与样品转移系统
配备 70 L/S 涡轮分子泵
气体歧管系统
支持最多 3 种气体
包括机械泵、真空计和精密漏阀
校准系统
最多支持 3 种气体的受控泄漏用于校准
系统集成
包括系统烘烤组件、不锈钢支架
电子设备机架及安全联锁系统
温度控制与数据采集系统
集成质谱-温度-时间关联输出功能