TDS1000 温度程序脱附系统 温度程序脱附质谱 屏蔽式质谱探头 催化剂研究、半导体表面反应分析、气体吸附行为

推动温度程序脱附（TPD/TDS）研究的科学进展

TDS1000 是一套高度集成的表面科学研究工具系统，可用于定量分析材料在加热过程中脱附出的化学物种。
该系统广泛应用于催化剂研究、半导体表面反应分析、气体吸附行为等领域。

🔬 系统核心功能：

通过 温度程序脱附质谱（TDS）探针 检测从样品表面脱附的质量信号，配合专用屏蔽质谱仪和控制软件，可获得高灵敏度的质量信号-温度曲线数据。

📊 典型工作参数：

• 温度范围：室温至 900 °C

• 质量范围：1–200 AMU（原子质量单位）

🧩 系统组成与技术规格：

1. 屏蔽式质谱探头（标准质量范围 1–200 AMU）

2. 热脱附腔体（带离子规）

3. 250 L/s 涡轮分子泵（配干式前级泵）

4. 钛升华泵（带环境屏蔽罩）

5. XYZR 精密样品操作平台（XYZ + 旋转）

6. 可转移样品托架及加热器

   • 支持最大样品尺寸：1.00 x 1.00 英寸

7. 双热电偶配置

   • 实时精确测量样品温度

8. 负载锁及样品转移系统

   • 配套 70 L/s 涡轮分子泵

9. 三通道气体歧管系统

   • 含机械泵、真空规、微调泄漏阀

10. 校准模块

    • 支持最多三种气体的泄漏控制校准

11. 整套系统集成：

    • 烘烤系统

    • 不锈钢支架

    • 电子控制机柜

    • 安全联锁系统

12. 温控与数据采集系统

    • 实现质谱信号-温度-时间的集成输出

该系统为表面科学研究人员提供了高度可靠、精密可控的实验平台，特别适用于脱附动力学、分子吸附、材料洁净度等分析任务。

🔧 LK TDS1000 系统的重要特点

1. 灵活的扩展能力
   LK 系统具有高度的可扩展性，可集成多种其他表面分析技术，例如：

   • LEED（低能电子衍射）

   • RHEED（反射高能电子衍射）

   • AES（俄歇电子能谱）

   • 离子溅射（Ion Sputtering）等
     系统可根据客户应用需求，定制额外端口或附加腔体。

2. 高灵敏度的屏蔽质谱探头
   专为检测从样品表面脱附的分子而设计，具备出色的信号灵敏度。
   搭配 高精度 XYZR 样品操作器，可将不同尺寸的样品精确定位于探头前方的最佳距离，有效抑制背景干扰信号。

3. 快速抽空设计
   紧凑的腔体结构与高效抽气系统设计，使样品加载后系统能快速抽空至 10⁻⁸ 至 10⁻⁹ Torr 的真空范围。

4. 独特的 UHV 样品托架设计

   • 样品托架自带加热元件，支持安装两个热电偶用于温度监控

   • 通过高精度机械连接，从 负载锁系统 转移至测量位

   • 热电偶可直接安装在样品表面，无需依赖台面温度换算，即可准确获取样品表面真实温度

   • 加热过程可在任意角度或位置进行，无需红外加热光学系统支持，灵活性更高

5. 便捷的气体引入与校准系统

   • 支持引入 3 种或以上 的标定气体，覆盖所需的质量范围

   • 系统配备完整的 气体歧管系统，可引入其他感兴趣气体，满足多种研究需求

该系统为从事表面反应动力学、脱附行为、催化活性研究的科研人员提供了高度集成、灵敏度高且易扩展的理想平台。