美国LK Technology,LK2000

LK 2000

LK2000 HREELS 仪器已在全球工业和学术实验室中得到广泛使用。它已成功应用于各种问题，包括金属上的碳氢化合物化学吸附（催化）、硅晶片清洁技术分析、表面等离子体、聚合物膜的表征、C₆₀电影研究，以及无数其他的。

• 3 meV （FWHM） 及以下的分辨率
• 可旋转和固定光学模型
• 一体式双磁屏蔽，实现简单的“螺栓固定”安装