美国LK Technology,用于表面科学的 UHV 系统

除了表面分析组件外，LK Technologies 还专门设计和制造完整的 UHV 系统，这些系统通常结合了 LK 组件和其他制造商的多种表面分析方法。

这些系统的常见元件是精密 UHV 腔室、主泵（通常是离子泵）、辅助泵（通常是涡轮分子泵）、精密样品纵器、安装框架和真空测量。客户通常要求的可选组件是快速进样系统（加载锁定）和烘烤控制。

多探针分析系统由带 X 射线单色仪的 XPS 分析、半球分析仪、AES、ISS、多通道 HREELS 和带有快速样品加载系统的完整样品制备室组成。

紧凑型 LEED/AES 系统，配备 RVL 2000 型 LEED、MINICMA™ 分析仪、NGI3000离子枪和进样系统。

EA5000MCA 型是我们的新型多功能高分辨率分析仪，可在保持高能量分辨率的同时实现极快速的数据恢复。此处显示的分析仪已集成到一个完整的多通道 HREELS 系统中，该系统具有样品表征和加载系统。

用于材料分析的热脱附 TDS1000 系统具有灵活的设计平台，允许使用其他技术，如 LEED、AES 和离子溅射。