美国LK Technology,NGI3000 系列离子源

NGI3000

我们坚固耐用、广受欢迎的离子源设计用于通过离子溅射清洁表面，离子束能量高达 3 keV，典型离子电流高达 30 μA。该喷枪采用一种新颖的气体喷射系统，允许在 1 x 10 的典型腔室压力下进行溅射^-6托。

• 获得专利的气体注入系统避免了昂贵的差速泵送设备
• 在低腔室压力下溅射惰性气体
• 宽离子束确保均匀溅射
• 与一般溅射清洗和 ISS 应用兼容
• 200 V 至 3 kV 的连续可调光束电压
• 带 USB 或以太网接口的数字控制电子元件