美国 Lattice Electro Optics Excimer Laser Mirrors XeCl (308nm) & XeF (351nm-353nm) 准分子激光镜XeCl(308nm)和XeF(351nm-353nm)

 美国 Lattice Electro Optics

Excimer Laser Mirrors XeCl (308nm) & XeF (351nm-353nm)

准分子激光镜XeCl(308nm)和XeF(351nm-353nm)

参数

材料: UV Fused Silica
平行度:< 3 arc min
净孔径:> 85% of central dimension
倒角:0.3mm ´ 45°
表面形状:l/10 at 632.8nm
表面质量:10-5 scratch-dig
能量:Up to 4J/cm2

 

 

Part NoDiameter

Thickness

A.O.I.
XeCl (308nm)XeF (351-353nm)
RX-308-0-UF-0525RX-352-0-UF-05031.00”0.250”
RX-308-0-UF-1025RX-352-0-UF-1025          36.0mm5.0mm
RX-308-0-UF-1538RX-352-0-UF-15381.50”5.0mm
RX-308-0-UF-2038RX-352-0-UF-20382.00”0.375”
RX-308-45-UF-0525RX-352-45-UF-05031.00”0.250”  45°
RX-308-45-UF-1025RX-352-45-UF-1025          36.0mm5.0mm  45°
RX-308-45-UF-1538RX-352-45-UF-15381.50”5.0mm  45°
RX-308-45-UF-2038RX-352-45-UF-20382.00”0.375”  45°

 


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