电子枪系统
Kimball Physics 电子枪,其设计用于各种超高真空 (UHV) 表面物理、空间物理和处理应用。喷枪可聚焦小光斑,用于 X 射线生产、焊接和 RHEED 等应用;或用于泛光束,用于电荷中和、电子束洗涤、空间模拟和辐射损伤研究。
操作范围:
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性能:
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高能量电子枪(最大 100keV)
EGH-6210 / EGPS-6210
能量范围: 1 keV 至 60 keV
光束电流: 10 µA 至 5 mA
光斑尺寸: 50 µm 至 10 mm
安装: 2¾CF
特性/选项:操作时内部对准、静磁聚焦、偏转和光束整形、脉冲、差分泵浦

EGH-6002 / EGPS-6002
能量范围: 1 keV 至 50 keV
光束电流: 10 nA 至 100 µA
光斑尺寸: 0.5 mm 至 100 mm
安装: 4½CF 或 6CF
特性/选项:操作时内部对准、静磁聚焦和偏转、磁透镜、脉冲

EGF-6104 / EGPS-6104
能量范围: 1 keV 至 50 keV
光束电流/光斑尺寸:
标准:10 nA 至 200 µA/15 mm 至 50 mm
高电流:10 nA 至 1 mA/15 mm 至 50 mm
安装: 2¾CF
特性/选项:可调光束操作时对准、广角均匀光束、发散控制、静磁偏转、光束清洗、自定义孔径、双网格脉冲

EGF-6115 / EGPS-6115
能量范围: 1 keV 至 50 keV
光束电流/光斑尺寸:
标准:10 nA 至 200 µA/15 mm 至 50 mm
高电流:10 nA 至 1 mA/15 mm 至 50 mm
安装: 2¾CF
特性/选项:可调光束操作时对准、广角均匀光束、发散控制、静磁偏转、光束清洗、自定义孔径、双网格脉冲

