离子枪系统

Kimball Physics 离子枪系统或离子源用于表面物理、空间物理、真空物理、电荷中和、检测校准、二次离子质谱和 MBE 的离子注入。

操作范围：

● 能量范围：10eV 至 20 keV
● 射束电流范围：1 nA 至 2 μA
● 光斑尺寸范围：500 μm 至 25 mm

优势：

● 灵活的控制器：独立的光纤控制和计量功能，如离子能量、源、电子能量、场控制、提取、聚焦、X-Y偏转和电子电流控制
● 碱金属离子源的选择允许不同的离子种类

性能：

● 射束电流稳定性：使用发射电流控制时每小时 ±1.0% 或对于碱金属源在没有 ECC 的情况下预热后每小时 ±10%
● 能量稳定性：每小时 ± 0.01%，满输出时每 8 小时 ± 0.02%

应用：

● 快速电容光束或双栅极脉冲
● 偏转/光栅
● 枪式法拉第杯

ILG-6 / IGPS-1016

能量范围： 10 eV 至 1 keV
光束电流： 1 nA 至 100 nA
光斑尺寸： 1 mm 至 5 mm
工作距离： 10 mm 至 200 mm
安装： 2.75″CF 或可拆卸
功能/选项：可聚焦、变焦镜头、恒定光斑超过能量范围、偏转、光栅、脉冲

IGS-4 / IGPS-2014

能量范围： 50 eV 至 5 keV
光束电流： 1 nA 至 2 µA
光斑尺寸： <1 mm 至 20 mm
工作距离： 10 mm 至 200 mm

IMG-4212 / IGPS-3212

能量范围： 1 keV 至 20 keV
光束电流： 1 nA 至 2 µA
光斑尺寸： 500 μm 至 25 mm
工作距离： 100 毫米至 1000 毫米