电子枪系统
Kimball Physics 电子枪,其设计用于各种超高真空 (UHV) 表面物理、空间物理和处理应用。喷枪可聚焦小光斑,用于 X 射线生产、焊接和 RHEED 等应用;或用于泛光束,用于电荷中和、电子束洗涤、空间模拟和辐射损伤研究。
操作范围:
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性能:
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低能量电子枪(最大 5keV)
FRA-2X1-2 / EGPS-1011
能量范围: 5 eV 至 1k eV
光束电流: 1 nA 至 400 µA
光斑尺寸: 20 mm 至 50 mm
安装: 2¾CF 或未安装
特性/选项:泛光灯、可变安装配置、脉冲

ELG-2 / EGPS-1022
能量范围: 1 eV 至 2k eV
光束电流: 1 nA 至 10 µA
光斑尺寸: 0.5 mm 至 5 mm
安装: 2¾CF,可拆卸选项
特性/选项:用于能量扫描、偏转、光栅化、高速脉冲的变焦镜头聚焦

EGA-1012 / EGPS-1012
能量范围: 5 eV 至 1k eV
光束电流: 1 μA 至 2 mA
光斑尺寸: 10 mm 至 25 mm(无聚焦能力)
安装: 2¾CF
特性/选项:泛光光束、脉冲、双网格

EFG-7 / EGPS-2017
能量范围: 50 eV 至 5k eV
光束电流: 1 nA 至 100 µA
光斑尺寸: 1 mm 至 100 mm
安装: 2¾CF,可拆卸选项
特性/选项:泛光光束或窄角光束、静电聚焦、偏转、光栅、脉冲

EFG-7 / EGPS-1017
能量范围: 10 eV 至 1500 eV
光束电流/光斑尺寸: 1 nA 至 100 µA
光斑尺寸: 1mm 至 100mm
安装: 2¾CF,可拆卸选项
特性/选项:窄角光束或泛光光束、静电聚焦、偏转、光栅、脉动

EGL-2022 / EGPS-2022
能量范围: 50 eV 至 5k eV
光束电流: 1 nA 至 100 µA
光斑尺寸: 1 mm 至 10 mm
安装: 2¾CF
特性/选项:用于能量扫描、偏转、光栅化、高速脉冲的变焦镜头聚焦

