描述
可聚焦电子束，光斑尺寸小至 100 μm
1 keV 至 30 keV
应用：
功能/选项：
- 光斑尺寸低至 100 μm
- 光束电流高达 5 mA
- 静磁聚焦
- 可选的静磁光束整形
- 静磁偏转
- 脉冲能力
- 运行期间的内部对准
- 用户可更换的点火装置
能量范围：1 keV 至 30 keV
光束电流：10 μA 至 5 mA*
光斑尺寸：100 μm 至 10 mm
安装：2.75 英寸 （23/4） CF
*提供更高电流的选项。
EMG-4210 电子枪与匹配的 EGPS-4210 电源是一个完整的子系统，可连接到用户的真空系统。它可以在广泛的能量、电流和功率范围内传输电子，工作距离为 50 mm 至 1000 mm。磁性定心和可选的整形线圈提供额外的电子束控制，允许用户偏转和塑造电子束。应用包括空间材料测试、辐射研究、半导体研究、X 射线生成和等离子体激发。
电子枪系统使用单晶六硼化镧 （LaB6） 阴极产生高能、可聚焦的小光斑电子束。束流能量和束流都可以在很宽的范围内独立调节，能量范围为 1 keV 至 30 keV，电流范围为 10 μA 至 5 mA。电子束可以通过控制网格的输入信号进行脉冲传输。
喷枪的可调节光学元件可以适应不同的发散和一系列工作距离，适用于各种应用。磁性聚焦透镜可以将光斑尺寸从 10 mm 变为 100 μm。磁性定心和可选的整形线圈提供额外的电子束控制，允许用户偏转和塑造电子束。整形通常会产生椭圆梁，其中两个轴都可以独立压缩或延伸。此外，阴极到阳极的间距可在内部调节以改变磁长。
该喷枪具有可调节的阴极馈通组件，允许点火装置相对于阳极和色谱柱进行机械对准。这种对准可以在喷枪在光束打开的情况下运行时实时完成。
其他信息：
| 重量 | 0.55 磅 |
|---|---|
| 最大光束电流 | 5 毫安 |
| 最小束流 | 10μA |
| 强调的搜索词 | 电子枪系统 |
| 最大能量范围 | 30keV |
| 能量范围 min | 1keV |
| 功能选项 select | 运行时内部对准，脉冲 |
| 安装 | 2¾CF |
| 最大光斑尺寸 | 10 毫米 |
| 光斑尺寸 min | 100微米 |
| 子名称 | 电子枪系统：1 keV 至 30 keV |
