美国 Kimball Physics 电子枪 电子束发生系统 EMG-4210 EGPS-4210
描述：
可聚焦高能电子束，光斑尺寸小至100μm
1keV至30keV
应用：
普通真空物理学
辐射研究
地面轰炸
半导体研究
X射线生成
等离子体激发
荧光研究
表面物理研究
功能/选项：
光斑尺寸低至100μm
束电流高达5mA
静磁聚焦
可选的静磁束整形
静磁偏转
脉冲能力
操作过程中的内部对齐
用户可更换的射击装置
能量范围：1keV至30keV
束流：10µA至5mA*
光斑尺寸：100µm至10 mm
安装：2.75英寸（2¾）CF
*更高的电流选项可用。
带有匹配EGPS-4210电源的EMG-4210电子枪是一个完整的子系统，可以连接到用户的真空系统。它可以在50毫米至1000毫米的工作距离内，在广泛的能量、电流和功率范围内输送电子。磁性定心和可选的整形线圈提供了额外的束控制，使用户能够偏转和整形电子束。应用包括空间材料测试、辐射研究、半导体研究、x射线产生和等离子体激发。
电子枪系统使用单晶六硼化镧（LaB6）阴极来产生高能、可聚焦、小点电子束。束能量和束电流都可以在宽范围内独立调节，能量从1keV到30keV，电流从10μA到5mA。电子束可以通过控制栅极的输入信号进行脉冲。
枪的可调光学元件可以适应不同的发散和一系列的工作距离，适用于各种应用。磁聚焦透镜的光斑尺寸可以从10毫米到100微米不等。磁性定心和可选的整形线圈提供了额外的束控制，允许用户偏转和整形电子束。整形通常会产生椭圆光束，其中两个轴都可以独立压缩或延伸。此外，阴极到阳极的间距可以在内部调节，以改变导电性。
该枪具有可调节的阴极馈通组件，允许点火单元相对于阳极和柱进行机械对准。这种对准可以在枪在光束打开的情况下实时完成。
