Kimball Physics离子枪系统，或离子源，广泛应用于表面物理学、空间物理学、真空物理学、电荷中和、检测校准、二次离子质谱（SIMS）和分子束外延（MBE）的离子注入等领域。
工作范围
- 能量范围： 10 eV 至 20 keV
- 束流电流范围： 1 nA 至 2 μA
- 光斑尺寸范围： 500 μm 至 25 mm
多功能性
- 灵活的控制器： 提供独立的光纤控制和仪表功能，如离子能量、源、电子能量、场控制、提取、聚焦、X-Y 偏转和电子电流控制。
- 多种碱金属离子源可选： 允许选择不同的离子种类。
性能
- 束流电流稳定性： 碱金属源下，使用发射电流控制时稳定性为 ±1.0% 每小时；未使用 ECC 的情况下为 ±10% 每小时（加热后）。
- 能量稳定性： 输出全功率时，能量稳定性为 ±0.01% 每小时，±0.02% 每 8 小时。
操作能力
- 快速电容束或双格栅脉冲
- 偏转/扫描
- 枪装法拉第杯
- 能量范围： 50 eV 至 5 keV
- 束流电流： 1 nA 至 2 µA
- 光斑尺寸： <1 mm 至 20 mm
- 工作距离： 10 mm 至 200 mm
- 能量范围： 10 eV 至 1 keV
- 束流电流： 1 nA 至 100 nA
- 光斑尺寸： 1 mm 至 5 mm
- 工作距离： 10 mm 至 200 mm
- 安装方式： 2.75″CF 或可拆卸式
- 能量范围： 1 keV 至 20 keV
- 束流电流： 1 nA 至 2 µA
- 光斑尺寸： 500 μm 至 25 mm
- 工作距离： 100 mm 至 1000 mm
