2025年2月27日 李班雨（18901628223微信同号）Kimball Physics 离子枪系统或离子源Kimball Physics 离子枪系统或离子源Kimball Physics 离子枪系统或离子源用于表面物理、空间物理、真空物理、电荷中和、检测校准、二次离子质谱和 MBE 离子注入。作范围能量范围：10eV 至 20 keV光束电流范围：1 nA 至 2 μA光斑尺寸范围：500 μm 至 25 mm多面性灵活的控制器：独立的光纤控制和计量功能，如离子能量、源、电子能量、场控制、提取、聚焦、X – Y 偏转和电子电流控制。碱金属离子源的选择允许不同的离子种类。性能束流稳定性：对于碱金属源，使用发射电流控制时每小时 ±1.0%，或在没有 ECC 的情况下预热后每小时 ±10%。能量稳定性：±每小时 0.01%，±满负荷时每 8 小时 0.02%。运营能力快速电容光束或双网格脉冲偏转 / 光栅枪式法拉第杯 Kimball Physics MBE 离子 二次离子质谱 双网格脉冲 快速电容光束 法拉第杯 电荷中和 真空物理 碱金属离子源 离子枪系统 离子源 空间物理 表面物理
