Kimball Physics 离子枪系统或离子源用于表面物理、空间物理、真空物理、电荷中和、检测校准、二次离子质谱和 MBE 离子注入。
操作范围
- 能量范围：10eV 至 20 keV
- 光束电流范围：1 nA 至 2 μA
- 光斑尺寸范围：500 μm 至 25 mm
多面性
- 灵活的控制器：独立的光纤控制和计量功能，如离子能量、源、电子能量、场控制、提取、聚焦、X – Y 偏转和电子电流控制。
- 碱金属离子源的选择允许不同的离子种类。
性能
- 束流稳定性：对于碱金属源，使用发射电流控制时每小时 ±1.0%，或在没有 ECC 的情况下预热后每小时 ±10%。
- 能量稳定性：±每小时 0.01%，±满负荷时每 8 小时 0.02%。
运营能力
- 快速电容光束或双网格脉冲
- 偏转 / 光栅
- 枪式法拉第杯
