UV-EXP 系列光刻曝光系统
idonus UV-EXP 系列曝光系统专为最严格的光质量需求而设计，配备高功率 UV-LED 光源、优质光匀化器及远心光学系统。该系统既可作为独立的台式设备使用，为您的基板提供充足的工作空间，也可集成到您的现有系统中。本文件旨在指导您选择最适合需求的型号，并规划其在工作流程中的集成方案。
光学系统结构
光引擎（UV-EXP-LE）
UV-EXP 内部集成了我们的高性能 UV-LED 光引擎（UV-EXP-LE）。通常，单颗 LED 可产生 365 nm、385 nm、395 nm、405 nm、435 nm 波长的光，或这些波长的组合（我们标准产品为 365/405/435 nm）。UV-EXP-LE 由电子系统精确控制，并通过空气或水进行冷却。安装在 UV-EXP 背部的电源模块提供所需的工作电流。LED 发出的原始光会通过优质光匀化光学组件均匀化，然后释放到曝光源封装中进行进一步处理。
机械底座（UV-MB）与 UV 防护罩（UV-SHIELD）
机械底座（UV-MB）用于支撑 UV-EXP 系统，UV 防护罩则包围工作空间。设计上为您的基板和对准工具提供充足的操作空间。周围的 UV 防护罩可过滤强烈的紫外光，保护您的眼睛及附近材料，同时仍可进行视觉监控。
曝光源（UV-EXP）
曝光源采用无反射外壳，包围光引擎并支撑远心光学系统。准直光学将发散（但已均匀化）的 UV 光线调整为垂直于基板方向。曝光源为特定曝光区域设计。根据您的基板尺寸，您可以选择我们的标准尺寸（Ø150、□150、Ø200、□200 和 □300 mm），也可定制其他尺寸。
控制单元（UV-EXP-CU）与反馈传感器（UV-SENS-GaP）
曝光系统的操作由 UV-EXP-CU 控制单元管理。通过 UV 和温度传感器的反馈回路，UV-EXP-CU 可控制功率、曝光时间、辐照度或剂量。同时配备安全互锁装置。系统还可选配远程控制单元 UV-EXP-RCU，以便与现有设备协议集成。
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