瑞士idonus UV-EXP系列光刻曝光系统、UV-EXP系列光刻曝光系统、高功率紫外LED光源、UV-EXP150R-SYS紫外LED曝光系统、UV-EXP150S-SYS紫外LED曝光系统 、UV-EXP200S-SYS紫外LED曝光系统、UV-EXP300S-SYS紫外LED曝光系统
产品定位
为满足最严苛的光质需求，idonus UV-EXP系列曝光系统集成了高功率紫外LED光源、高端匀光器与远心光学系统。该设备既可作为独立台式设备提供充裕的衬底操作空间，也可集成至现有产线。本文档将指导您选择最佳型号并规划工作流集成方案。
光源模块（UV-EXP-LE）
采用防反射外壳的光源模块内置LED光引擎（UV-EXP-LE）。标准配置中，单个LED光引擎可产生365nm、385nm、395nm、405nm、435nm单一波长或组合波长（我们的标准方案为365/405/435nm组合）。UV-EXP-LE通过电子系统精准控制，支持风冷或水冷散热，背面安装的电源模块提供工作电流。
曝光光源（UV-EXP）
UV-EXP内部集成高性能紫外光引擎与远心光学系统。LED产生的原始光线经高端匀光光学系统均匀化后，在曝光光源腔内完成后续处理。准直光学元件将已均匀化的发散紫外光线校准为垂直于衬底的平行光束。该光源针对特定曝光区域设计，可根据衬底尺寸选择标准规格（0150□、□150、0200□、200□及□
300mm），亦支持定制尺寸。
控制单元（UV-EXP-CU）与反馈传感器（UV-SENS-GaP）
曝光系统由UV-EXP-CU控制单元操作，通过紫外与温度传感器反馈回路，精准控制功率、曝光时间、辐照
度或剂量，并配备安全互锁装置。另提供远程控制单元UV-EXP-RCU，用于对接现有设备通信协议。
机械基座（UV-MB）与紫外防护罩（UV-SHIELD）
机械基座支撑UV-EXP系统，防护罩围护工作区域。其设计为衬底与对准工具提供充足操作空间，防护罩可
过滤有害紫外辐射，在保障人眼与周边材料安全的同时保持视觉监控能力。
我们的UV-EXP曝光系统集成高功率发光二极管（LED）来产生紫外光。与传统系统中使用的汞灯相比，LED具有诸多优势，正推动全行业的技术转型。下表重点列出了LED技术的主要特性，而图2则介绍了紫外光刻所需的4种关键波长光谱分布。
365纳米紫外LED兼容性最佳，是我们为大多数应用推荐的首选。若工艺效率是关键参数，385纳米型号则成为特定光刻胶的最佳选择。2LE或3LE选配方案允许在曝光单元上安装2倍或3倍数量的LED，并可在需要时通过手动切换实现数秒内快速转换。
光质量
光刻工艺要求晶圆照明具备均匀性、准直性与远心性。均匀性确保光刻胶表面获得一致的固化/曝光程度，典型要求是辐照不均匀性低于±5%。我们的UV-EXP产品保证±3%的均匀性，远超多数竞争对手。每台出厂的UV-EXP都会对照明区域进行4000点以上扫描以确保均匀性。我们的标准产品线准直角范围在±1°至±2°之间（具体取决于型号），该角度既满足微细图形刻蚀需求，也适用于厚胶工艺。UV-ACA（可调准直角）选配方案提供一组可互换固定光阑，通过降低辐照度输出实现更小准直角调节。
