阴影掩模与基板对准模块化系统
用于阴影掩模与晶圆精密对准的模块化系统，集成防振夹具卡盘，确保对准精度与重复性
概述
通过阴影掩模进行薄膜沉积是一种高效的物理气相沉积（PVD）图层结构化工艺。该技术通过在沉积过程中对基板进行精确掩膜，可替代一道光刻和一道蚀刻工序。此工艺的核心难点在于阴影掩模与晶圆的对准及临时固定。
技术方案
艾多纳斯提供的系统能实现阴影掩模与晶圆的精准可重复对准，并集成防振动夹具卡盘。经显微镜验证，其对准精度可达6微米。该卡盘可直接置入PVD真空腔室，沉积完成后开启卡盘即可无损分离晶圆与掩模，掩模可重复使用。
定制服务
我们可为任何尺寸基板提供沉积卡盘定制，并能根据需求调整设计。同时提供多种材料（金属、硅、玻璃或陶瓷）制备的高精度、低成本阴影掩模
精准可控的PVD薄膜图形化工艺
专为PVD设计的防振夹具卡盘
简易无损晶圆夹持机制
真空吸附技术简化对准操作
兼容多种晶圆尺寸
支持卡盘定制化服务
即装即用免调试
维护成本低廉
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