瑞士idonus UV-LED光刻曝光系统 UV-EXP系列
通过UV-EXP系列，idonus提供了一种基于高功率LED和高级均化光学技术的创新UV照明系统。该产品线适用于光刻胶曝光（UV-LED光刻和固化），并适用于MEMS、微流体学、光子学、半导体和光伏应用中使用的各种基材和光刻胶。我们的标准UV照明产品系列满足了宽度可达300毫米（11.8英寸）的掩膜和晶圆的光刻需求。
UV-LED曝光的优点
- 稳定的照明，无需每日校准
- 即开即用，光源仅在曝光期间开启，无需机械快门
- 寿命长，不再需要更换耗材
- 窄光谱：不会导致基材不必要的加热，工艺更加可重复
- 低功耗
- 无维护成本
idonus UV-LED曝光系统
idonus推出了一整套UV-LED曝光产品。我们的系统结合了市场上最有效的UV-LED与高等级微透镜阵列，全部在内部完成组装和控制。我们的设计采用了完全远心光学系统，在整个曝光区域内提供可重复和均匀的照明条件，即高度均匀且稳定的强度，并具有极小的发散角。这种先进的光学系统确保了整个基材的完美均匀曝光，生成具有直侧壁的固化光刻胶，并实现了具有微米级关键尺寸的图形精确微结构化。
idonus UV-EXP的性能
UV-LED曝光系统提供多种标准配置，并可以通过多种选项和变体（如单一或混合波长）进行定制。作为特殊设备的制造商，idonus还可以根据客户的规格要求开发完全定制的设备（例如，不同的曝光区域、适配的设备外壳）。我们的产品主要特点见“标准UV-LED曝光系统”表格。
idonus标准UV-LED曝光系统
| 型号 | 波长 | 有效曝光区 | 辐照度 Ee | 非均匀性 C * | αFWHM | WD ** | 外部尺寸，mm³ |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| UV-LAB100R | 365 nm | Ø 100 mm | — | 5% | ±2° | 250 mm | 250x300x670 |
| UV-EXP150R | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | Ø 150 mm | 50 mW/cm² | 3% | ±1.8° | 350 mm | 1000x480x330 |
| UV-EXP150S | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | 150×150 mm² | 50 mW/cm² | 3% | ±1.8° | 300 mm | 960x500x420 |
| UV-EXP200R | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | Ø 200 mm | 30 mW/cm² | 3% | ±1.4° | 400 mm | 1170x570x530 |
| UV-EXP200S | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | 200×200 mm² | 30 mW/cm² | 3% | ±1.4° | 400 mm | 1170x570x530 |
| UV-EXP300S-1LE | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | 300×300 mm² | 17 mW/cm² | 3% | ±1.0° | 300 mm | 1270x715x700 |
| UV-EXP300S-3LE | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | 300×300 mm² | 50 mW/cm²（3 个LED） | 3% | ±1.0° | 300 mm | 1270x715x700 |
| UV-EXP600S | 365 和/或 385 / 395 / 405 / 435 nm | 600×600 mm² | 30 mW/cm²（多个LED） | 3% | ±2.0° | 300 mm | *** |
*非均匀性 (C)：光强度分布的最大偏差百分比。 **WD：工作距离。
