idonus,具有双图像显微镜的掩模对准系统(MAS + DIM)
T掩模对准器被设计成将掩模与衬底精确对准。使用例如荫罩允许进行无光刻的薄膜沉积。一旦晶片在掩模下对准，两个衬底将被夹在双卡盘中。然后，带有衬底的被夹紧的双卡盘可以被插入到PVD室中进行蒸发。在沉积之后，双卡盘将被分离，并且可以取出衬底
除了荫罩之外，idonus掩模对准器还具有广泛的应用，例如:
简单
真空夹紧能力和3轴手动对准使这种掩模对准器非常容易使用。
灵活性
校准器被设计用于几种标准或非标准的晶片尺寸和形状。idonus根据您的需求生产卡盘。
精确
结合显微镜，可以实现最小5微米的对准公差。我们提出了自己的用于对准控制的双图像显微镜。用户可以同时聚焦和观察两个对准位置，以简化对准过程。
https://www.bihec.com/idonus-irmicroscope/MAS + DIM/
