HARRICK,CHC-VUV-5,CHC-CHA-5,Praying Mantis,低温反应室,检测粗糙材料表面变化
Praying Mantis低温反应室
Harrick Scientific Products
漫反射光谱法是一种非常灵敏的检测粗糙材料表面变化的方法。它对具有高表面积的粉末特别有效
漫反射光谱法是一种非常灵敏的检测粗糙材料表面变化的方法。它对具有高表面积的粉末特别有效。这使得漫反射在非均相催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的研究中具有不可估量的价值。这种低温反应室非常适合在可变温度和压力下进行此类研究。这些低温反应室允许在广泛的受控温度和压力下进行漫反射测量，并与用于FT-IR和UV-Vis漫反射光谱的螳螂附件一起使用。
特性
设计用于从高真空(133 μPa或10-6 torr)到133 kPa (1 ktorr)的研究，温度从-150°C到600°C(真空下)。
三个入口/出口端口，用于排出电池和引入气体。
由耐化学腐蚀的316不锈钢制成。
包括
反应室
低压加热筒。
k热电偶。
FKM氟弹性体(相当于Viton) o型圈。
样品包装工具和溢出托盘。
圆顶带有两个KBr窗和一个玻璃观察窗(FTIR配置)
圆顶带有两个SiO2窗和一个玻璃观察窗(UV-Vis-NIR配置)
Praying Mantis低温反应室(UV-Vis-NIR) – CHC-VUV-5
CHC-VUV-5
Praying Mantis低温反应室(FTIR) – CHC-CHA-5
CHC-CHA-5
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